台积电想要看到的结果出现?ASML正式宣布,外媒:何必自欺欺人

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ASML正式宣布

台积电想要看到的结果出现?ASML正式宣布,外媒:何必自欺欺人

从2020年开始,全球半导体市场都开始关心起了一件事情,那就是,摩尔定律将达到极限,接下来芯片的发展方向在哪里,乍一看,对于这个问题,目前来讨论,似乎显得还有些早,因为目前主流的芯片代工工艺还维持在5nm左右,最先进的工艺则停留在3nm,而距离3nm工艺的大范围应用似乎还有一年时间。

但是,事实似乎并非如此,因为根据摩根大通在2018年公布的数据结果显示,全球顶级EUV光刻机制造厂商ASML公司表示,有能力支撑工艺技术到1.5nm节点,而3nm节点距离1.5nm节点真的就是一步之遥,如果中间没有2nm过渡,直接跳跃到1.5nm,那按照摩尔定律的规则来推算,在2024年左右就将进入到摩尔定律发展的最后一个阶段,届时似乎就代表了摩尔定律真正达到了发展极限。

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这对于台积电和三星电子来说,似乎不是个好消息,因为伴随着摩尔定律的发展进入极限,台积电、三星电子的代工工艺在短时间内将无法得到突破,而后来者将快速进行追赶,这时,台积电和三星电子在芯片代工领域的优势将会丧失。

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而就在这个时候,根据5月17日消息显示,ASML公司正式宣布了一则新消息,这则消息的出炉,意味着台积电、三星电子想要看到的结果出现了。因为根据ASML公司的表述内容来看,根据现有技术可以将芯片代工工艺推至1nm节点,这相较于1.5nm虽然进步的只有0.5nm,但是这0.5nm对于台积电和三星电子来说,也许就是3年之4年的领先,这自然是它们乐于看到的。

何必自欺欺人

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可是,面对ASML公司传来的喜讯,外媒方面却给出了不同的看法,外媒有评论表示,“ASML公司何必要自欺欺人呢?进入5nm之后,芯片代工工艺的下探已经很难带动功耗的降低了,甚至由于工艺的进一步降低,导致电子管上的隧穿越来越严重,严重制约了功耗的降低,同时伴随着芯片工艺的降低,芯片良率问题也大不如前,这将导致芯片制造成本增加,根本划不来,而ASML之所以依旧坚持只不过是不想打破如今电子芯片时代的格局,想要继续做独门生意”。

而事实也的确是这样,如果继续保持着现有的芯片体系发展,那么由于ASML公司是目前全球唯一一家能够生产EUV光刻机的存在,所以对于整个芯片行业而言,ASML公司是绝对的垄断者,这种垄断能够让ASML公司“躺赢”。

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但是,一旦大家都认为摩尔定律进入发展极限,就会寻找新的芯片发展模式和方向,例如光子芯片等,这将有可能对于ASML公司的垄断地位造成冲击,显然,ASML公司是不愿意看到这种情况发生的。

但是,即便是再不愿意,行业前景的脚步是不会停止的,所以目前各地区的芯片巨头们都在向着光子、新材料等领域进军,特别是光子芯片更是有可能成为高性能芯片发展的全新方向,另外光子芯片更是能够极大程度上解决功耗问题,毕竟光在传递的过程中是不容易发热的。

总结

台积电想要看到的结果出现?ASML正式宣布,外媒:何必自欺欺人

而目前华为等国内的一些芯片企业也已经在光子芯片领域展开研发,相信这会是我国芯片技术弯道超车的一次机会,当然这并不是说发展EUV光刻机技术的突破就没有意义了,毕竟回归本质,即便是光子芯片也还是需要设计线路的。

另外,由电子芯片进入光子芯片时代绝对不会是一蹴而就的,是需要时间去过渡的,而这个过渡期也许不会短。

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页面更新:2024-04-25

标签:光刻   光子   代工   功耗   节点   自欺欺人   定律   芯片   极限   正式   工艺   公司

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