在前几年，美国向中国实施了制裁，并施压一些企业暂停了与我们国家的合作。除了一些实体企业以外，为了限制我们国家在芯片技术上的研制，美国也要求国际众多的芯片制造企业终止了与我们国家的供应。

为了打破美国对我们的技术封锁，阻止美国想要用芯片技术来卡我们脖子的狼子野心，所以我们国家就组织力量自己研发芯片制造。而说到制造芯片，就离不开光刻机。

2021年，北大国发院名誉院长林毅夫引用ASML CEO的话，在公开演讲上表示：“如果不把光刻机卖给中国，大概三年以后中国就会自己掌握这个技术了”。而如今，距离这三年之期已经过去两年了，我们国家的光刻机技术研究得怎么样了呢？

认清差距

光刻机是芯片制造的核心设备之一，可以分为用于芯片制造的光刻机、用于封装的光刻机以及用于LED制造领域的投影光刻机等。而其中，用于芯片制造的光刻机是我们国家的短板，几乎完全依赖于进口。

目前来说，在如今的市场上，光刻机的龙头老大依旧是荷兰的ASML(阿斯麦)，在世界市场上占据着超过80%的市场份额，垄断着高端光刻机的市场。光刻机的研发非常的艰难，它的研发技术门槛和研发经济门槛都非常地高，光刻机技术也因此被誉为是集成电路产业皇冠上的明珠。

因为它苛刻的研发要求，如今世界上能有能力生产高端光刻机的厂商非常的少，到了更为尖端的14nm光刻机，就更是只剩下ASML能够制造了。

而反观我们国家，现在比较知名的光刻机制造厂商是上海微电子装备公司，其生产的光刻机能做到最精密的加工制程是28nm，然而这28nm的DUV光刻机还无法实现量产，能实现量产的只有90nm光刻机，虽然说，我们国家已经在光刻机领域取得了相当大的成就，然而我们国家目前的光刻机技术相较于其他国家来说，还是有着比较大的差距的，我们在国际上并没有什么竞争力。

不要盲目自信

曾经，ASML在美国高压之下，被迫退出中国市场时，曾说如果不把光刻机卖给中国，大概三年以后中国就会自己造出来了。林毅夫也表示，如果将来中国掌握了光刻机技术，那么中国的生产制造成本将会更低，到那时候ASML可能就要退出世界市场了。

而许多网友在看到这番言论后，在网络上表示“真以为这个是核心技术，只不过是利润太低没必要。只要我们搏一搏，制作光刻机就是分分钟的事情。”确实我们国家曾经取得了一系列让人惊叹的成就，许多网友们也在期待着我们国家能像当时我们制造原子弹、氢弹时那样，打破其他国家对于我们的技术封锁。

但是对于这件事情我们要理智地看待，一直以来，我们国家一直注重科研技术的研发，但是我们要知道，技术研究这个事情是需要时间来让他慢慢成长的。现如今，我们必须得承认，我们国家的光刻机研制同先进国家仍然有着比较大的差距，而我们也相信科研人员能够一点点的追赶上这些先进的技术，但这不是一蹴而就的。

我们国家目前所能达到的DUV光刻机技术已经是ASML在15年前就已经大规模使用了，我们国家现如今研制的DUV与ASML最先进的EUV技术相差了15年的时间跨度，而且ASML的研制还是多个国家共同进行的，而我们国家要想在自己独立研制的情况下，是很难在短短的三年内研制出来的，只有认清了差距，我们才能超越。我们可以相信我们未来会取得成功，但是我们不能盲目自信我们马上就会成功。

但是，这也并不意味着是在为我们的光刻机的研制唱衰，更不意味着我们就要向西方国家屈服。中国凭借自己的力量来研制光刻机技术已经是在走一条十分困难的路了，所以我们要理解其中的难点，不要总是想象着短短时间我们就能研发出来，然后给那些西方国家狠狠一耳光。

给科研人员时间，忘记所谓的三年之期，慢慢等待这项技术的研发，相信总有一天这项技术会被我们所攻克并走在世界的前列。

总结

光刻机技术的研发是一个非常艰难的过程，我们对我们的科研人员有信心是好事，但是我们不能盲目自信，要清楚认清我们同先进企业之间的差距，给这项技术的研发足够的时间，静待这项技术在我们国家的发芽与开花。

大家对于这件事情有什么看法吗？来评论区讨论一下吧！