佳能推出5nm光刻机，国产光刻机却屡屡爆雷：弯道超车失败了？

文/文评科技

在半导体制造领域，光刻机堪称是绝对的“大国重器”，没有光刻机，半导体芯片制造根本无从谈起。目前国际主流的光刻机是由EUV LLC联盟所主推的EUV光刻机，这种光刻机已经基本上被荷兰的ASML公司所垄断，就算是台积电、因特尔这样的国际半导体巨头，在ASML公司面前，也得放下高高在上的姿态，成为“弱势甲方”，以求获得EUV光刻机的优先供给。

ASML的光刻机，高通、三星、英特尔等巨头的芯片设计，台积电、联电等公司的晶圆代工，国际先进的半导体领域已经组成了一套完整的链条，基本形成了由西方国家主导，日韩等国和中国台湾地区深度参与的基本格局。殊不知，在当今全球半导体市场格局形成之前，日本半导体行业也曾傲世全球，即便在如今基本被ASML公司所垄断的高端光刻机领域，日本企业至今尚存一战之力。

日本半导体产业辉煌的过去

从上世纪七八十年代开始，日本经济取得飞速发展，不但成为亚洲地区第一个发达国家，更是在相当长的时间内，稳居仅次于美国的世界第二大经济体。在巅峰时期的八十年代末，日本的GDP一度接近美国的70%，小到剃须刀，录像带和收音机，大到冰箱、彩电和汽车，日本产品在全世界四处畅销。即使在美国，丰田汽车也一度将实力雄厚的通用、福特等老牌汽车公司按在地上摩擦。

有钱了，日本公司在科技投入上自然也毫不吝啬，虽然当时的电脑、手机等电子产品尚未普及，但相对应的收音机、影碟机在市场上却相当紧俏，对了，还有日本引以为自豪的的数码照相机和摄像机。这些电子产品的热卖，大大刺激了半导体元部件的市场需求。

倒逼着以佳能、索尼、富士为代表的日本高科技企业一掷千金研发制造芯片产品，其中，光刻机就是众多日本厂商着重发力的重点。在那段经济的巅峰时期，日本半导体产业达到了历史的最高峰，彼时台积电刚刚成立，不足为虑，即便美系芯片巨头，在实力雄厚的日本半导体企业面前，也黯然失色。

然而，好景不长，随着日本经济的强势崛起，美国愈发感到不安，唯恐日本后来者居上，反超美国。随着《美日广场协定》的签订，在房地产泡沫破裂的瞬间，日本经济也由盛转衰。针对如日中天的日本半导体产业，美国人如法炮制，与日本签订了《美日半导体协定》，以条约的形式限制了日本半导体的发展方向，并在暗地里，将日本厂商踢出了EUV LLC联盟，死死地限制住了以尼康和佳能为代表的的光刻机企业。由此，日本的半导体光刻机产业，被隔绝在了世界主流方向之外。

另辟蹊径，日本光刻机涅槃重生

尽管发展饱受限制，日本半导体产业虽然在终端领域已经和美欧等巨头企业有了相当的差距，但是在很多人看不见的地方，比如半导体材料领域，日本人默默地做到了行业第一，让别人连卡脖子的机会都没有。

在光刻机领域，虽然被排斥在主流的EUV LLC联盟联盟之外，日本自己制造的光刻机不得使用EUV光源技术，也很难绕过EUV LLC联盟所持有的众多专利，但是以佳能为代表的日本厂商，基于自己过去所积累的技术储备，推出了全新了NIL技术，也就是纳米压印技术。采用了NIL技术的日本光刻机，不但避开了EUV LLC众多的技术限制，而且对比当前主流的EUV技术，反而还有相当大的技术优势。

传统的EUV制造技术需要依靠EUV光源对晶圆芯片照射、蚀刻、切割，工艺繁琐，所以我们看到的ASML光刻机，体型巨大，程序复杂。佳能此次推出的NIL技术不同，它是通过将电路板雕刻在特殊的材质上，从而能“盖印章”一般完成芯片的制造，不但使繁琐的工艺流程大大精简，更有绕开了EUV LLC联盟所设定的各种限制。

据悉，目前尼康和佳能所推出的NIL光刻机，在芯片纳米级制程上可以达到5纳米，尽管距离EUV光刻机最先进的3纳米还存在一定的差距，但考虑到NIL技术日后改进的空间，超越EUV也并非不可能。

国内半导体行业的现状

尽管自华为断供以来，国内掀起了一阵投资半导体行业的热潮，奈何这些资本向来逐利而来，追利而去，可谓“来也匆匆，去也匆匆”。当潮水散去之后，才知道谁在裸泳，很多在浪潮之下建立起来的半导体企业，撤资的撤资，注销的注销，一片狼藉不说，有的投资甚至根本就是一场闹剧，圈了钱干脆就直接跑路，将这一片朝阳产业搅得乌烟瘴气。

当然，国内也不乏真正埋头研究搞业绩，苦心踏实做实业的半导体厂商，他们的努力让“中国芯”保持着起码的体面。我们需要认识到，光刻机这种产品，并不是一朝一夕就能做出来来的，这需要相当长的技术积累，试想佳能没有前三四十年的辉煌史，白手也做不出来光刻机。

有投资是好事，但是决不可能一口吃成个胖子，不论是光刻机，还是晶圆制造，都需要踏实研究，埋头苦干，找到自己的方向，拼命去努力，得到成果和收获不会辜负我们的付出。