华为发布最新的专利，ASML光刻机巨头已经不是独一无二的了？

华为发布了最新的专利，来自日本的最新消息， ASML这个光刻机巨头已经不是独一无二的了？

高科技，就像是浩瀚的宇宙，在这片广阔的土地上，隐藏着无数的奥秘，这些奥秘，都是人类发展的关键。当今世界，最关键的技术，就是芯片。

而光刻机，尤其是 EUV光刻机，这一点，所有人都心知肚明， EUV光刻机，几乎已经被阿斯麦尔垄断了。其他人，根本就没有机会，更别说分一杯羹。不过，比亚迪的创始人王传福却有一句名言。

EUV光刻机也是如此， EUV光刻机虽然不可能在短时间内完成，但在关键技术上，华为和日本的佳能，都已经完成了。

这会对阿斯麦尔造成什么影响？在将来，阿斯麦尔的位置会不会受到这些突破的影响？

日本的新技术，华为的最新技术突破

《日经中文网》在四月一日发布了一则重大新闻，称日本佳能公司，正在研发一台3D光刻机，希望利用3D技术，将多块晶片叠加起来，从而提升相关半导体的性能。佳能在日本的进一步披露。

这款新型的3D半导体光刻机，最快也要到明年上半年才能面世，而日本的这款光刻机，到底有什么特点？与目前 EUV光刻机相比，其曝光范围将增加4倍，同时也能为 AI所用的大规模晶片制造提供支撑。

华为于4月5号公布了一项新的芯片叠层封装和终端设备的专利，华为的这一项新技术，将会在保证电源供应的前提下，解决掉硅的高成本。

华为，佳能，都在这方面的突破，虽然方向不同，技术也不同，但有一点是一致的，那就是华为的专利，日本的技术，将会让阿斯麦尔在光刻机上，尤其是 EUV光刻机英雄，彻底失去了作用。这下阿斯麦尔可就惨了。

阿斯麦尔陷入困境

据集微网2月13号报道，阿斯麦尔在美国的收入从2019年的19.8亿欧元，到2020年的1657亿欧元，而阿斯麦尔在美国的收入也一直在下滑，到了15.83亿欧元。

阿斯麦尔在美国的三年内，已经损失了20%左右的收入。阿斯麦尔很有可能会在美国市场上有所亏损，于是阿斯麦尔就在四月五号对外公布，阿斯麦尔的首席执行官温彼得将会前往韩国，而温彼得则是在韩国道华城与当地的官员们商议着如何发展本地的半导体产业，以及如何培养本地的人才，或许是有意与韩国进行进一步的半导体合作。

现在华为拿到了新的专利，佳能也拿到了新的技术，如果以后这种新的技术被推广开来，那么阿斯麦尔在美国的经济上，肯定会受到很大的影响。

此外，韩国媒体 ETnews在2月21号报导说，阿斯麦尔公司于当日作出新的决策，将阿斯麦尔公司到2025年韩国市场 EUV光刻机的销售目标上调至147.5亿欧元，比上年增长一倍以上。

阿斯麦尔之所以这么做，是因为他认为，阿斯麦尔想要扩大自己的市场份额。同样的，如果华为和佳能的技术进入了阿斯麦尔的领域，那么阿斯麦尔的市场地位，将会受到很大的影响。

但现在，华为和佳能的成功，却不是阿斯麦尔想要的，在这种不可逆转的现实面前，阿斯麦尔的市场，会不会受到很大的影响？

会不会对阿斯麦尔造成威胁？

他会给阿斯麦尔带来一些麻烦，但也会给他带来很大的影响。首先，佳能和华为在技术上的突破，只是一个小小的突破。即使将来 EUV光刻机真能在国内生产出来，顶多也就是和阿斯麦尔现在的 EUV光刻机平分秋色。

不过，阿斯麦尔的杀手锏还是有的，不知道大家是否还记得，阿斯麦尔的2019年报告中提到过，新一代 EUV光刻机的研制，将于2022年交付，2024年至2025年，而这一次的生产计划，将会提前到2023年，也就是明年。

根据阿斯麦尔去年12月的消息，最新一代的 EUV光刻机， Na值为0.55，不仅可以将芯片的工艺水平提升到1 nm以下，而且还可以增加产品的曝光度。

所以，虽然阿斯麦尔的技术还在不断的发展，但无论是国内的华为，还是日本的佳能，都只是一个技术上的突破，一个专利的问题，根本不可能在阿斯麦尔的市场上站稳脚跟。

概要

华为和佳能公司的最新技术，让阿斯麦尔的 EUV光刻机成为了唯一的替代方案。他希望，阿斯麦尔的 EUV光刻机和 DUV光刻机，都能在国际上取得突破。