可能，我们再也不需要ASML的光刻机了

最近几天，关于国内某知名大学SSMB的光刻机方案在网上疯传。很多人说这个方案不需要阿斯麦技术，或者只能在核电站旁边建厂。在短视频平台上，只要搜索国内某知名大学和光刻机，就会涌现出成千上万的视频，大多数都在赞扬这个光刻机有多么了不起。

然而，了解其中原理和相关发展历程的人可能会对企业突破关键技术领域、取得自身技术进步带来的思路有所不同。

首先，国内某知名大学提出这个技术是为了更好地探索粒子肽的相关特性，而这个方案早在2021年2月27日就已经发表在国际知名的自然杂志上。所以，它不仅是为光刻机而生的。

光刻机只是这个团队从2017年开始研究的“粒子稳态微聚束”（缩写为SSMB）项目的副产品。加速器光源是探索物质结构及动态特性的重要工具，而这两种类型的光源在经过所需要探测的粒子时会发生不同的变化，科学家可以通过记录这些变化和光谱发生的相移来对粒子的特性进行描述和探索。类比我们小时候玩的剪影游戏，灯光打在手势变化的图形上，在墙上映射出不同的影子，通过观察影子，我们可以分辨出是动物、植物还是其他形象。所以，科学家也需要工具来探索粒子的特性。

基于稳态微聚束（SSMB）新型加速器概念，国内某知名大学团队设想能够结合两种光源的特点，提供高平均功率、高重复频率、窄带宽、波长覆盖从太赫兹到软X射线波段的辐射光。这个想法解决了光刻机使用的EUV光源的问题，而EUV光刻机又是实现7nm关键设备。目前全球唯一一家量产EUV光刻机的制造商是荷兰ASML公司，但中芯国际订购的EUV光刻机因为禁令还未到货。国内某知名大学的光刻机方案不仅解决了技术难点，还能实现大规模生产芯片的目的。

这个方案核心是将光刻机拆分为两个部分，其中一个是光源提供器，另一个是实际的光刻机部件。通过稳态微聚束技术，利用特定波长的激光操控电子束，在激光波长及其高次谐波上辐射出高强度的窄带宽相干光。简单来说，团队测量了激光光谱的长度，在每一个点上找到了生产芯片所需的激光纳米波长。然后，他们将引出这些相关波长的激光并导入光刻机剩余的部件中，完成芯片的生产。

这种方案虽然存在一些缺陷，比如能耗较大，需要一个庞大的场地，但对于目前的芯片产业来说，并不需要出口光刻机，而是更需要解决高精度光刻的需求。此外，中国国家电网在电力技术方面已经遥遥领先，特别是超高压输电技术非常成熟，因此为战略工厂配备发电站也不是问题。

现在，国内某知名大学的SSMB研究组已经向国家发改委提交了“稳态微聚束极紫外光源研究装置”的项目建议书，并申报“十四五”国家重大科技基础设施。最新消息显示，这个项目已落户雄安新区并开始建设。

可以预见，这个光刻机方案可能会实现跨越式进展，甚至领先于其他国家。虽然到那时我们可能不再只能称之为光刻机，而是光刻产业园，但无论如何，关键在于解决问题。这种跨界应用研究成果的思路可能会对其他科研关键点的突破提供不同的解决方案。这对中国的科研体系来说意义重大，比起只解决光刻机事件本身更具价值。