最新制裁落地，开始限制DUV光刻机出口，大陆芯片的突破点在哪？

阅读此文之前，麻烦您点击一下“关注”，既方便您进行讨论和分享，又能给您带来不一样的参与感，感谢您的支持！

前言：

2023年6月30日，荷兰政府宣布新规，进一步限制半导体制造设备出口。与此同时，荷兰光刻机巨头ASML也发表声明称，该公司未来的DUV光刻机若要出口到其他国家，必须向荷兰政府申请出口许可证。荷兰政府有权决定asml产品是否可以销往其他国家。

同日，路透社发布消息称，美国与荷兰达成合作计划，进一步挤压中国半导体产量。

大陆半导体的历史

从时代发展来看，中国大陆半导体制造分为以下几个阶段：

1、早期阶段（1950-1970年）：中国大陆在半导体领域起步较晚。这一阶段，中国开始开展基础研究和教育，并逐步建立了一些实验室和教育机构。

但由于种种情况，目前仍以技术和产品引进为主。这个时代，欧美国家对半导体的重视程度比我们要高得多，所以也有很多技术是人员早期在国外开发的。

2、自主研发初期（1980-1990年）：中国于20世纪80年代初开始自主研发。成立了一批半导体研究院和企业，在芯片的设计、生产和封装方面投入了大量资源。本阶段重点建立自己的半导体产业基地，并已逐步取得一些基础建设成果。

这个时代主要以半导体设计为主，为大陆半导体的下一个设计时代奠定了坚实的基础。

3、产业扩张阶段（2000年代-2010年代）：2000年代初以来，中国政府进一步加强了对半导体产业的支持。出台一系列政策措施，鼓励国内企业加大研发投入，提高自主创新能力。同时，引进外资和技术合作，加快产业发展。中国的半导体制造能力显着提升，开始从事高性能芯片的制造和设计。

这个时代是中国半导体产业史上最重要的阶段。北大、龙芯、中芯国际等大陆知名半导体厂商都在这个时代脱颖而出，拥有一定的自主技术。

北丹智是国内首款自主设计的CPU型号，并且有配套的软件设施和生态建设，但在消费市场并没有得到市场的认可，惨淡的销量也无法弥补高昂的研发成本。宣布停止开发。在蒋尚舟的帮助下，中芯国际开启了对上海整个张江地区的政策支持，并获得了国家的资金和技术支持。再加上张汝京坚如磐石的管理体系，中芯国际取得了长足的进步，发展势头强劲。

但后来，随着台积电的屡次打压专利，中芯国际遭遇严重挫折。张汝京辞职，姜尚舟因癌症去世。长期以来，中芯国际的发展目标飘忽不定。

4、高端发展阶段（2010年代至今）：近年来，中国政府将半导体产业上升为国家战略，加大对高端芯片领域的支持力度。推出一系列政策和金融支持，鼓励企业自主创新、参与全球竞争。我国在存储器、集成电路设计、先进封装等领域取得重大突破，建立了一批国内领先企业。与此同时，中国还加强了装备材料方面的自主研发和产业布局。

这个时代，中国大陆出现了很多新兴的半导体公司，如寒武纪、长江存储、长鑫存储、海思等，但这些公司大多是专注于设计的公司，很少有公司专注于生产。这也是国内半导体行业的通病，采用全球分工合作的方式打造产品并推向消费市场。

这样做的好处是，每个公司完成自己的任务，然后一起赚钱。但缺点也很明显，那就是一旦上下游供应链被切断，依靠企业自身的能力，就不可能创造新产品并进入市场赚钱。

大陆半导体的困境

在中国大陆，只有专注于华夫饼代工厂的中芯国际走在了发展的前列。中芯国际经历了几年的动荡，直到2017年梁孟松加盟，发展形势才趋于稳定。

中芯国际有两位CEO，分别是赵海军和梁孟松，一位负责公司运营，另一位负责公司技术开发。

梁孟松加入后，只用了不到一年的时间，就将中芯国际28纳米良率提升到85%以上，然后直接跳过14纳米技术的开发。几年后，中芯国际14纳米研发成功并测试流片。。

但后来，中芯国际空降了前台积电经理蒋尚义，也就是梁孟松在台积电的老板，两人之间产生了深深的不满。梁孟松得知此事后，发出解雇报告并要求辞职，因为中芯国际没有给予他应有的尊重。

梁孟松在辞职信中写道，中芯国际的28纳米、14纳米、12纳米和n+1技术已经开发和测试，7纳米技术也已经开发出来。只要拿到EUV光刻机，就可以进入整个生产阶段。梁孟松表示，中芯国际突破先进制程技术并不难，难的是拿不到生产所需的设备和材料。因此，他在研发7nm技术的同时，同时启动了28nm和14nm技术的供应链国产化项目，大力推进美化生产。

当时美国并没有完全打压中国半导体市场。中芯国际仍然可以购买DUV光刻机。一旦拥有相关设备，中芯国际将大幅缩小技术差距。

美国最初的制裁只是为了限制华为在消费领域的利润增长，以延长华为5G技术的发展。随后中国的科技发展开始受到大规模打压。长江存储、龙芯中科等背后有国家资源的企业都被美国拉拢，美国企业被禁止向其提供技术和设备材料。

尤其是龙芯中科，龙芯中科的产品主要供应全国。北斗卫星、高温侦察、军事打击等领域都有龙芯CPU。龙芯和海思一样，都是一家芯片设计公司。一旦美国对生产实施制裁，两家公司很快就会失去主动权。

大陆半导体突破的关键点

大陆半导体领域想要打破现状，与国外厂商合作是不现实的。尽管ASML此前一直与中国大陆保持着合作关系，但美国不断向荷兰政府施压。ASML在进出口方面也受到荷兰政府的严格控制，禁止向中国销售技术产品。

现在我们只能在原有的设备和材料上进行优化。

未来，能够在消费市场商用的光刻机产品，中国大陆将只剩下上海微电子公司的光刻机产品，而且投入使用的产品只能达到90nm分辨率。还远远不够。

此前传闻的28nm光刻机目前还没有准确消息。

中芯国际现有的光刻机也是从国外公司采购的产品。日本的佳能、尼康和荷兰的ASML已经开发光刻机相当一段时间了，有一定的技术背景。

我国大陆在2000年左右才开始大规模投入光刻机研发，建立了多个光刻机研发生产基地。通过与国际知名企业合作，引进先进技术，培育本土企业，我国在光刻机领域成功获得了一定的技术资源，如华大、北方华创、中微电子等。

现在只有20多年的时间，距离赶上国外企业的产品标准还有很长的路要走。人才是决定技术发展的关键。各地像台积电、三星、苹果、华为这样的实力企业，都依靠尖端技术走在行业的前列。台积电内部人员绝大多数来自德州仪器；三星依靠三倍的工资从其同事人员那里勒索了大部分技术。凭借这一方法，三星击败了闪存龙头东芝；而华为就更狠了。寻找那些有能力创造技术专利的人，比如加拿大北电网络公司董事童文。

结语

美国政府正在全面打压中国科技发展。基于政治因素，美国还打压其他国家相关企业，计划切断中国半导体产业上下游供应链。

现在美国、日本、荷兰已经逐渐开始走向统一的对外布局，在技术、设备、材料上与中国市场断绝联系。

制裁前，我国大陆从ASML采购了一批DUV光刻机产品。如果国内供应链可以替代，大陆市场仍然可以依靠以前的设备进行小型技术开发。其余的压力将由国内供应链生产商承担。

免责声明：文章内容如涉及作品内容、版权图片或其它问题，请在30日内与本号作者联系，如反映情况属实我们将第一时间删除责任文章。文章只提供参考并不构成任何投资及应用建议。