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文|依蔓子谈
编辑|依蔓子谈
最近美国、日本等半导体行业的垄断国家陆续对我们国家的半导体行业实施制裁,一时间全国上下都在讨论,中国的半导体行业,中国的光刻机究竟该何去何从。
但就在这时,新华网不声不响的发布了一条消息,这条消息与我们的半导体行业息息相关,消息中透露了我国在光刻机领域所取得的最新进展。
这一条消息一出,直接给中国的半导体行业打入了一剂强心针。
光刻机很快就不再会是一个神话!
许多人看到这个消息,估计又会说,“不就是一个制程才28纳米的光刻机吗?有啥好骄傲的,人家国外都已经进入5纳米时代了”。
对于这样的说法,我只想说,能不能先站起来说话,别动不动就把膝盖给弯下去。
首先我们要明确28纳米及以上制程的芯片,在国际市场份额上占比超过了50%,而且28纳米在半导体业界中是一个分水岭,象征着芯片技术的成熟与否。
只要你掌握了28纳米的芯片制造工艺,那么,就可以称之为拥有成熟芯片制造技术的国家,这才是此次上海微电子所项目的意义。
而且一台光刻机它所涉及到的技术是一般人无法想象的,中国能够把它给弄出来已经非常的厉害了。
光刻机是一种用于制造芯片等电子元件的关键设备。
光刻机顾名思义,通过光来对半导体材料进行处理,原理并不算复杂,就是利用紫外光源照射光刻胶,然后通过光学透镜将图形投射到半导体材料表面上。
光刻胶在经过一系列的变化后,会在半导体材料上形成我们所需要的电路图,最后通过一系列化学工艺完成芯片的制作
但就这样的一个并不算复杂的原理却涉及到了3个大的子系统,以及10万余个零部件。
首先便是光源系统,光刻机对于光源有极高的要求,目前国际上的光刻机大多采用紫外光作为光源,比如ASML的光刻机采用的便是极紫外光源,这一光源是美国所开发出来的。
然后则是投影光学系统,这一部分的组成是最为复杂的,因为涉及到了光路的设计和搭建以及透镜的制造,这一系统相当于一个投影仪,将之前所设计好的电路投射到半导体材料上。德国的蔡司是这一方面的佼佼者。
最后一个则是自动化控制系统,光刻机需要精确控制光源的强度、曝光时间和透镜的运动等参数,这一系统系统考验的则是一个国家计算机软件发展水平。
三大系统涉及到了材料、化学、光学、机械、计算机控制等等多个方面,这才是为何光刻机会被成为“皇冠上的明珠”,因为要制造出这样的一台机器,以上的这些学科必须做到全世界的顶尖水准,才有可能能够将他们整合在一起,形成一台完整的光刻机。
这其实与中国目前所处的国际环境有极大的关系。
欧美等国,不断的通过经济、军事、科技等手段遏制我们的发展,这其中对我们影响最大的便是科技上的制裁,在现在这个年代,一个国家没有了科技的支撑,所有的一切都是空谈。
而在科技领域,我国的最薄弱的一项就是半导体行业,虽然我们国家在这一行业起步并不算太晚,但是却始终没能掌握这一关键技术。
随着信息化时代的到来,中国的半导体产业被落在了后面,我们有能力设计顶尖的芯片但是却没有能力将其制造出来。
这也成为了许多中国人心目中永远的痛,也极大的制约了我们国家许多产业的发展。
但是一旦中国能够自己制造28纳米的芯片,那我们将会极大的减少对国际的依赖,加强我们的独立自主性。
光刻机的神话正在一步步的被中国科学家所打破,这背后蕴含着的是中国不断追求科技进步和科技自主的坚定决心以及顽强的毅力。
28纳米也只是中国半导体行业万里长征的第一步,我们需要做的还有很多,更先进的制程工艺正等待着我们去探索,终究有一天中国的芯片行业会站在世界的顶端。
中国芯会愈发的强劲。
页面更新:2024-05-14
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