ASML继续出售28纳米光刻机，或在于中国的光刻机已取得突破

迈向自主创新的中国芯片行业正面临着新的挑战。ASML作为世界领先的光刻机制造商，近日宣布停止向中国出售14纳米光刻机，引起了业界的广泛关注。然而，这并非ASML的最后策略，因为它仍然保留了后手。据了解，ASML表示愿意继续对中国出售28纳米的浸润式光刻机。这款光刻机虽然主要用于生产28纳米工艺，但实际上也可以用于生产14纳米工艺，只需采用多重曝光技术，尽管生产成本较高。

然而，对中国而言，借助NXT:1980Di进行14纳米和7纳米工艺生产是有可能的。梁孟松作为中芯国际的CEO，拥有丰富的7纳米技术经验，曾为台积电和三星推进7纳米工艺。因此，国内芯片制造企业有望借助这款光刻机推进7纳米工艺。

ASML继续销售NXT:1980Di浸润式光刻机并非单纯出于善意。它期望这款老型号的光刻机继续畅销，技术成熟、成本较低，这对于销售价格也是有利的，ASML自然能够获得丰厚利润。更重要的是，它或许已经意识到中国在浸润式光刻机领域取得了突破。

近期，一家中国手机企业传出将推出采用国产14纳米工艺生产的5G手机芯片。这意味着国产浸润式光刻机不仅已开始投产，而且还成功实现了14纳米工艺所需的光刻胶等材料国产化。显然，如果采用了美国技术，这家中国手机企业就不能生产该芯片。

ASML的选择似乎证明了中国国产浸润式光刻机的突破对于其继续供应NXT:1980Di具有重要意义。ASML希望通过继续提供这款光刻机来吸引中国芯片企业购买，减少对国产光刻机的需求，从而延缓国产光刻机技术的进展。

面对ASML的决定，中国芯片行业应坚定地推进自主研发。正如以往液晶面板和固态硬盘的例子所示，只有掌握先进技术，海外供应商才会提供甚至降价供应。倪光南院士的名言“先进技术是买不来的、求不来的”依然深刻而真实。因此，中国芯片产业应更紧密地支持国产光刻机产业链，实现技术自主可控，摆脱对他国技术的依赖。只有这样，中国才能在芯片产业的竞争中立于不败之地。