华为又要制造惊喜？网传麒麟芯片回归，性能达中端水平，产量稳定

麒麟芯片真的要回归了吗？其实我们可以先看看，华为的技术研发实力到底有多牛。因为华为的专利技术不仅仅是在通信领域位列世界前列，在半导体相关领域，也在不断取得突破。

其实有很多朋友可能不知道，华为有一个名叫“鳍式场效应晶体管和制备方法”的专利，在今年年初的时候正式公布了，它或许是华为扭转局面的一个利器。

在专利摘要中显示，本申请实施例提供了一种鳍式场效应晶体管和制备方法，采用本申请提供的鳍式场效应晶体管的结构，可以在保证开关速度的情况下提高鳍式场效应晶体管的可靠性。

所谓的鳍式场效应晶体管，就是大家经常看到FinFET，由华人科学家胡正明教授最早提出，是一种新的互补式金氧半导体晶体管，因为晶体管的形状与鱼鳍相似，故名鳍式场效应晶体管，目前很多先进的芯片都采用该技术。

那么华为的这个鳍式场效应晶体管有什么特别之处吗？

根据网友的爆料，称华为的晶体管设计专利，是中国首个FET结构设计，相较于FinFET以及GAA FET，它的结构可以鳍通道被闸门全包围，时钟频率大了一倍，电阻下降一半，性能或将比GAA强10%。GAA是一种新的晶体管技术，可以突破FinFET的性能限制，主要用于5nm以下的工艺制程。例如三星在2022年就宣布，其3纳米GAA架构的芯片已经开始量产。

总之，华为的这个晶体管技术，具有一定的先进性，性能和功耗方面都有进步。

另外，近一段时间，网络里流传着各种华为5G回归、麒麟芯片回归的消息。

其中，有一位网友表示，由于有了华为晶体管技术的加持，中芯国际的N+1，相当于台积电N7，N+2相当于台积电N4，N+2plus相当于N5P。

台积电的N7就是第一代7nm工艺，例如骁龙855、麒麟980、苹果A12就是采用了这个工艺。

台积电的N5是第一代5nm工艺，N5P和N4都是N5的改进优化，集成度上没有代差。N5节点上，具有代表性的是麒麟9000和苹果A14，N5P节点上，具有代表性的是苹果A15。

也就是说，不论是N7还是N5，对于当下的华为来说，都是够用的。倘若能够实现网友所说的，就不仅仅是回归的问题，而是中端芯片的回归，这对于继续抢夺市场份额来说很有意义。毕竟，喜欢追求极致性能机型的用户是少数，对于大部分人来说，中端甚至低端芯片已经可以满足日常所需。

有数码博主表示，新麒麟的性能介于骁龙778G与骁龙8+之间，接近于麒麟980。加上华为自家的鸿蒙操作系统，可以通过进一步优化，提高流畅度、减少卡顿，给用户更好的使用体验。所以正如前面所讲，这个新麒麟的性能绝对够用了。

另外在产能方面，前期备货量可能还是有点不足，目前每天产能只有3.2万片，但后期会逐步补充上来，不是问题。

不管怎样，正所谓无风不起浪，目前每天都可以看到麒麟回归的相关消息，所以也希望真的能像大家爆料的那样，给出更多惊喜。那么，让我们耐心等待好消息吧。