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美国对我国半导体行业的限制，又在变本加厉了。

6月30日，荷兰政府发布《先进半导体制造设备法规》，加码了对我国光刻机出口的管制。

荷兰光刻机巨头ASML也发布公告，称最先进的浸没式DUV光刻机出口需要获得荷兰政府认可。

这里可能会有人疑问：

不是早在2年多以前，荷兰光刻机就被禁止向我国出售了吗？怎么又来了一轮禁售？

这里需要指出的是，当初荷兰受美国逼迫对中国禁售光刻机，指的是能生产14nm以下最先进制程芯片的EUV光刻机。

但如今，适用于14nm以上的中低端芯片生产，部分先进的浸润式DUV光刻机也遭受了限制。

换句话说，只限制荷兰对华出口高端EUV光刻机还不算完，美国还要把低端光刻机领域也彻底堵死，全方位遏制我国半导体产业发展。

面对美国对我国半导体产业发展的围追堵截，我国芯片行业想要迎头赶上，乃至于实现弯道超车，必须要坚持自主研发，走出一条新路。

荷兰被迫限制对华出口光刻机

对荷兰的ASML公司而言，从自身的利益出发，其实完全没有限制对华出口光刻机的理由。

2019年，中国对于光刻机的需求已经占到了全球市场的将近40%。

再加上这几年国内对光刻机的需求继续增长，有专业人士预计，到今年年底我国光刻机需求占全球市场的占比将达到50%。

对于ASML这样一家几乎已经形成垄断的公司来说，显然不可能愿意放弃占据自身业务量一半的庞大市场。

实际上，2022年10月美国发布对华最强的半导体技术管制，荷兰最初选择了拒不跟随。

荷兰外贸大臣施赖纳马赫尔表示：

“荷兰不会一比一照搬美国（对华出口）的措施。”

ASML的首席执行官彼得·温宁克更是公开质疑美国的双标做法：
“美国的芯片制造商能够对中国销售最先进的芯片，可ASML却只能对中国销售较旧的芯片制造设备，这似乎有些矛盾。”

但可惜的是，即便ASML是全球唯一的光刻机巨头，但生产光刻机的关键零部件本土化率并没有那么高，以EUV光刻机为例，只有大约45%的零部件在荷兰本土生产，其余55%都要依靠美国及其盟友日德等国的进口。

因此，如果荷兰不答应限制对华光刻机的出口，就会被美国“卡脖子”，所以不同意也没办法。

尽管ASML能够生产全球最顶尖的光刻机设备，中国又有全球占比最大的市场，但由于美国从中作梗，二者无法达成交易，实现双赢。

中国光刻机产业发展如何？

首先需要承认的一点是，我国光刻机产业发展距离全球顶尖，乃至于实现自给自足，还有很大一段距离。

比如光刻机制造的第一个难点，也就是机器的光源问题。

现在全球只有美国的Cymer掌握着成熟的制造技术，就连ASML也需要向其采购预订。

目前我国首台EUV光源工程样机已经正式落地，但尽管已经研发成功，也只是刚刚为量产打下基础，距离此项技术真正成熟，真正完成配套光刻机的生产，还有一定的差距。

再以光刻胶为例，光刻胶是光刻机生产、芯片生产的核心原材料之一，主要被用作抗腐蚀涂层材料。

目前在高端光刻胶领域，日本遥遥领先，足足占据全球市场的75%，掌握了高端光刻胶市场的绝对话语权。

而我国目前光刻胶发展还处于起步阶段，就拿ArF光刻胶来说，这种光刻胶被用于制作14nm到130nm的光刻机、芯片上，我国ArF光刻胶的国产自给率只有1%，还需要向日本专门进口。

因此，虽然我国半导体产业发展迅猛，在光刻机制造研发领域一直在发力，但这种真正的高精尖科技领域，想要实现突围难度相当之大。

尤其美国为限制我国半导体产业发展无所不用其极，除了技术、关键设备之外，甚至在材料领域也是围追堵截，进一步加大了我国光刻机研发制造的难度。

光刻机产业距离突破，未来还有比较长的一段路要走。

中国芯片自主要走出新路

其实与我国在新能源汽车领域的发展路径类似，国产光刻机想要真正突破西方限制，更重要的是针对未来方向的布局，实现弯道超车。

以汽车产业为例，汽车制造业被誉为工业上的明珠，是可以作为国家经济支柱的产业之一。

但传统燃油车时代，由于我国工业起步落后，失去了先发优势，导致外国汽车对于国产车形成了碾压局面。

消费者宁可花费翻倍乃至于几倍的溢价去购买合资车，也不愿意购买相对低端的国产车，国产车企也因为技术落后、利润微薄，只能勉强维持经营。

不过，随着国家加大对于新能源汽车产业的扶持力度，国产新能源汽车产业蓬勃发展，一众国产车企迎来了新生。

去年，我国新能源汽车产销已经连续8年位列全球第一，动力电池装机量前10企业中，我国占据6席，真正实现了汽车工业上的弯道超车。

而如今光刻机产业面临着类似的局面，我国不仅缺乏先发优势，而且面临着西方国家的层层限制。

且生产一台高端EUV光刻机，需要超过10万个零部件，全球5000家以上企业合作，其中的技术研发难度可想而知。

短时间内想要在国内建设一条完备的光刻机产业链，绝非易事。

因此，如今除了继续在国产光刻机研发制造上实现突破之外，也要基于未来方向进行布局，围绕下一代晶体管的材料、器件与工艺方向进行持续的研发投入，从而形成反制手段。

想要绕过光刻机的路径，就必须不断地进行尝试，比如我国的超分辨率光刻机、量子芯片、光子芯片等生产线，都在规划过程中，国内首条多材料光子芯片产线也即将于今年建成。

总而言之，面对西方国家对我国半导体产业的封锁，除了脚踏实地，继续坚持在光刻机研发制造上的投入之外，也要“仰望星空”，从另一个方向去试探新的出路，针对未来进行布局。

写在最后：

从另一种角度来看，美国限制我国芯片产业研发，也并不完全是一件坏事。

这相当于直接帮我们断掉后路，逼着我们一门心思搞自主研发，尽快实现光刻机产业的突破。

当初ASML总裁曾口出狂言，称就算中国对着图纸也造不出光刻机。

如今中国不断在光刻机产业发力，且已经取得了一定的成绩，事实会证明，中国并不惧怕各种层层加码的限制，光刻机国产化只是时间早晚的问题。