ASML公开发声，特别点名了华为，释放出什么信号？

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ASML是全球顶级光刻机制造商，在芯片制造行业扮演重要的角色。按照美国市场的规则要求，ASML无法为大陆客户提供EUV光刻机，甚至DUV光刻机部分高端设备也要被限。

ASML希望一直在中国市场做生意，但有些事情不是ASML能说了算的。而ASML为了争取中国市场的商机，其美国高管公开发声，还特别点名了华为，释放出什么信号？

光刻机是制造芯片的必要设备，最顶级的EUV光刻机只有荷兰ASML这一家公司能制造，因此ASML垄断了全球高端光刻机市场。

虽然EUV光刻机是ASML量产的，但其实离不开美国技术的支持，ASML采用了大量的美国技术，所以当美国执行市场规则时，ASML只能选择遵守。这并非ASML的本意，如果可以，相信ASML早就把EUV光刻机出货到中国大陆。

美国联合荷兰，日本达成协议，意图修改DUV光刻机的出货规则，而日本更是将23项半导体列入出口限制。明面上不是针对任何一个国家地区，其实就是在配合美国行动。

情况对ASML越来越不利了，这些国家达成的协议会让ASML市场运营增添变数，在中国也有可能失去广阔的商机。

这不是ASML 希望看见的，为了争取中国市场的商机，其美国高管公开发声，表示美国的规则会迫使中国重新发明轮子。言外之意就是导致中国从头开始，事实上，中国已经说过，若别无选择的话，会研发类似设备。

值得一提的是，ASML美国高管也特别点名了华为，称包括华为在内的中企都在复制ASML的做法。

以ASML光刻机的实力，想要超越不是一朝一夕的事情，ASML扬言就算公布图纸，别人也造不出来。

这就好比食品包装袋上的配料表，虽然每一样材料都公布出来了，却未必能复制。每一种材料的背后都是完整的生产制造链，不同的工艺会导致不同的材料结果，只有确保每一样材料调配得当，才有可能成功。

但光刻机的制造不是简单搭配尝试就能搞定的，顶级的EUV光刻机内含10万个零部件，有些零件系统需要工程师花费数年的时间去调试，得出最好的数据参数，在一次次试验中探索路径。

顶级光刻机这么难造，ASML有足够的自信保持技术领先。不过ASML公开发声，并点名了华为，这释放出担心中国会替代ASML光刻机的信号。

ASML看到了中国自研光刻机的决心和潜力，在美国规则限制的情况下，中国不会无动于衷，也不会任由事态发展，而是想办法寻找破局的解决方案。其中最好的办法就是自研，哪怕自研难度非常大，也不会轻易放弃。

就好比华为自研了鸿蒙系统，自研了昆仑玻璃，又联合国产厂商攻克自研14nm EDA工业软件。

在ASML看来，华为的自研就代表其他中国厂商的信念，他们在光刻机等重要半导体设备领域投入大量生产力量，朝着未来的目标出发。美国越是限制，越容易促使中国坚定自研目标。

ASML总裁彼得•温宁克说过，物理规则在中国也是有效的，永远不要说永远。很显然，ASML已经失去了垄断EUV光刻机的自信，开始担心中国有朝一日会掌握这项技术。

也许为时尚远，也许需要5年，10年甚至更长的时间，可是要知道，硅基芯片已经面临摩尔定律极限。

ASML研发的光刻机速度开始放慢，下一代的NA EUV光刻机是最后一代版本，再往下便很难突破更高的工艺了。一旦速度放缓，竞争对手后来居上的可能性就非常大。

中国有自己的光刻机整机装备公司，名为上海微电子，掌握了设计，集成光刻机制造的能力，与国产光刻机供应链一同成长。目前可以实现90nm芯片量产，而更先进的制程还在坚持研发中。

别看ASML处于领先地位，可ASML是在美国技术支持下才得以成功的，而美国技术变成钳制ASML的工具，如果ASML不想一直被美国制约，就应该考虑别的解决方案了。

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