中国科技快速发展，哈工大新技术曝光，助力28nm光刻机突破

如果说曾经的我们因为落后而自卑，那么现在的我们就为中国的崛起而骄傲。经过70多年的发展，尤其是近40年来的快速发展，中国早已今非昔比，在各个科技领域都取得了不错的成果，可以说是真正的科技强国。

在航空航天方面，我们先有“嫦娥”奔月，后有“天问”登火，再有“羲和”探日，又有“天宫”迎客。在工程机械方面，我们有全球最经济的盾构机，有昆仑号千吨级架桥机，有101米级泵车，2万吨级龙门吊，其他方面也都取得了不错的成绩。

不过，在尖端的半导体领域，我们还是要有所不足的。如今，世界先进制造水平已经到了3nm的程度，但中国却卡在了14nm的程度，甚至在未来很长一段时间都无法继续突破，这都是因为我们没有EUV光刻机。

说到光刻机，那就是现代科技的明珠，尤其是EUV光刻机，没有任何一个国家可以单独将其制造出来，因为里面包含了50多万个部件，每一件都是行业内最顶级的企业才能造出来，离开了谁都不行。

比如其中的光源就是来自于美国的，物镜组、光学组件、精密加工是来源于德国的，零部件来源于日本，浸没双工作台来源于荷兰、中国台湾，荷兰ASML公司只是将其组装起来，不是说组装不重要，但没有其他部件荷兰也的确造不出光刻机。

在很早的时候，中国芯片之父张汝京就致力于提高中国芯片科技，创立中芯国际一路将芯片制程攻克到45nm，距离世界先进水平也仅有一步之遥，如果不出意外只需要一年半的时间就可以赶上世界先进水平。

然而，意外出现了，先是台积电控诉中芯国际侵权，导致中芯国际发展遇阻，张汝京无奈辞职，后是美国封锁中国EUV光刻机，导致中芯国际花1.9亿美元订购的EUV光刻机，至今无法交付，甚至交付遥遥无期。

华为、中芯的遭遇已经告诉了我们，不能将希望寄托在别人身上，唯有将科技掌握在自己手里才是正道，包括光刻机也只有自己突破才能不被别人卡脖子。毫无疑问，光刻机制造很难，尤其是先进的光刻机。

曾经，中国专家团队到荷兰ASML参观，ASML工程师骄傲地说：“别看了，就算我们把图纸给你们，花50年你们也造不出光刻机！”这固然有他们轻视的成分在里面，但也足以说明光刻机的制造难度了。

然而，中国一贯都是不怕困难的，我们每次遇到困难都是迎难而上，然后一点一滴地攻克，曾经我们没有自己的导航系统，结果美国把GPS一关，我们的轮船就只能在大海里游荡，结果我们痛下决心，花了30年打造了北斗导航系统。

曾经我们想要加入美国空间站，但却被拒绝了，深知求人不如求己的中国人，发誓要造出自己的空间站，于是我们用了30年打造了自己的国际空间站。这一次，在光刻机方面，我们遇到了困难，但我们绝不会退缩，而是下定决心来攻克。

前不久，90nm光刻机已经下线了，这也是日本佳能的水平，而近期28nm光刻机又传来了好消息，哈尔滨工业大学攻克了其中的超精密测量技术，研制了超高精密高速激光干涉仪，在这一关键技术突破了美国封锁。

其实，不仅是哈尔滨工业大学，中国有众多大学都在为中国光刻机做努力，比如清华大学、北京大学、复旦大学、华中科技大学等等，其中清华大学在去年发现的新型的粒子加速器光源，就有望运用到光刻技术中。

28nm光刻机越来越近了，无论是多么强大的封锁，都不能阻止我们科技向前的脚步，正如ASML高管所说：“中国制造出高端光刻机只是时间问题，连荷兰都可以造出光刻机，比荷兰强大17倍的中国，又凭什么认为他们造不出光刻机？”

一语成谶，ASML高管所担心的问题就要来了，当中国28nm光刻机落地之时，ASML的DUV光刻机就将彻底失去中国市场，遭受灭顶之灾，相信在华为、清华、北大、哈工大等一众顶级科研机构的协作写，这一天不远了。