有点酸啊！三星官宣3nm工艺可量产了！明年底新机有希望用上

今年的最强芯片就从A16和8Gen2中选择了！二者都是4nm工艺的顶级CPU！但是科技的进步实在太迅速了！你知道目前3nm工艺已经成型了吗？

新的制造工艺比之前的 5nm 工艺能效高 45%，性能高 23%，表面积小 16%。未来，它希望其第二代 3nm 工艺能够将功耗和尺寸分别降低 50% 和 35%，并将性能提高 30%，计划要到 2024 年才能开始大规模生产。

目前，三星电子是唯一一家宣布成功量产 3 纳米芯片的公司，随着三星电子、台积电、英特尔等半导体大厂开始引进 EUV 设备，工艺技术不断发展，预计 3 纳米工艺将成为关键竞争节点。，在晶圆代工市场中占据最大份额的是 5 纳米和 7 纳米工艺，市场规模 369 亿美元，未来其份额将逐步由 3 纳米所取代。他表示，“随着 14 纳米 FinFET 工艺的推出，三星电子已经上升到代工市场的第二位。”

不知道最近大家有没有看到时政类的新闻，老美们大量的吸纳了EUV（极紫外光刻）的人才，英特尔今年初宣布将在俄亥俄州投资逾200亿美元，建立两座先进晶圆厂；三星电子正规划在德州投资20兆韩元（约170亿美元）设立晶圆厂。此外，美光、台积电等业者也扩大在美国投资。

联发科工程师主管被苹果挖人，不仅如此，华为还没被限制的时候，旗下海思便向台湾IC设计大厂联发科、联咏、瑞昱等半导体工程师招手，给出的薪水至少是现有薪水的一倍，而现在三星早人一步开发了3nm工艺，那么未来至少两年内，三星系的移动端、桌面端数码产品至少在硬件性能上依然处于领先的地位！

美国芯片企业美光研发了绕开EUV光科技的1β工艺，美国光刻机企业Zyvex公司研发的电子束光刻机更是将终结EUV光刻机，这更是要了ASML的命，一直说啥听啥，还不卖光刻机给咱们。

但中国在2021年的芯片自给率达到三成以上，不过中国的计划是2025年实现七成芯片自给率，这意味着未来三年中国的芯片产能将进一步增加一倍，对光刻机的需求量极大。今年三季度中国招标了28台光刻机，其中21台给了日本企业，而中国本土企业取得了7台光刻机订单，ASML一台都没有得到，中国显示的态度就是世界上供应光刻机并非只有ASML一家，最近ASML也知道还是当人比做狗强，也表态会拒绝美国的要求，希望和咱们合作！

但是靠人不如靠己，咱们目前无论在学校阶段还是科研重点项目阶段都对EUV很重视，希望在大家最长用的手机领域早早用上国产的4nm，甚至3nm！