打破日企垄断？中国芯再传捷报，倪光南院士说得很对

大家都知道，华为手机业务之所以遭遇“困境”，主要就是由于国内半导体企业无法实现高端芯片的量产，让老美钻了空子，试图利用这个短板打压华为等中企，从而达到遏制我国高科技发展的目的。

不可否认，我国在半导体芯片领域确实存在很多短板，比如有“芯片之父”之称的光刻机，还有“芯片之母”之称的EDA软件等等。可能会有人这样问，如果拥有先进制程工艺的中芯国际如愿从ASML手中获得EUV光刻机，那么是不是就意味着可以量产高端芯片了？其实没有这么简单。

就拿制造芯片所需的光刻胶来说，其是由溶剂、增感剂和感光树脂等成分组成的化学材料，在光刻机工艺过程中起到了抗腐蚀的作用。也正是因为具有抗腐蚀的特性，光刻机被应用于显示面板、集成电路和半导体分立器等细微图形处理加工的作业之中。

虽然只占半导体芯片制造材料价值的12%，但光刻胶可是半导体八大核心材料之一，更是制造芯片过程中必须要用到的化学材料。可以说，如果晶圆不涂抹光刻胶，那么光刻机就无法将芯片线路复刻上去，而接下来的刻蚀、封装等细分步骤也将无法继续下去，其重要性不言而喻。

然而，如此重要的半导体材料却被东京应化、JSR、富士化学等日本厂商所垄断，尤其是JSR，拿下了全球ArF光刻胶市场份额的头把交椅，这也是台积电为什么远赴日本建设芯片工厂的主要原因。

那么问题来了，国产光刻胶的进展如何？要知道，由于起步较晚，导致我们在很多产业链和原材料核心技术等方面落后于人。不过，随着中企开始重视自主研发，国产光刻胶与国际大厂的差距正在被不断缩短。

就在近期，有媒体报道，国内产刻胶巨头南大光电正式官宣，自主研发的ArF国产光刻胶正在向多家下游客户稳步推进，该光刻胶产品可应用于55nm、14nm等制程。这也意味着，国产光刻胶已经打破了日企的垄断。

其实，除了南大光电之外，国内还有上海新阳、徐州博康等光刻胶厂商，也在加码布局并取得了不错的成绩，为国产芯片制造添砖加瓦。

最主要的是，随着外部因素的“打压”，国产芯片产业链已经实现了28nm等工艺的自主量产，14nm等芯片也已经进入量产阶段，而大量“卡脖子”的技术也被我们一一攻克。

正如倪光南院士说的那样：关键核心技术是买不来、换不来、求不来的，国产芯片的崛起没有捷径可言，只有身体力行地去实现了全产业链的国产化，才能不受制于人。

不管怎么说，无论是国产光刻胶也好，还是国产光刻机也罢，我们都要始终记住一句话，芯片是人造的，而并非神造。西方国家可以造出来的东西，我们中国人也可以造出来，只不过需要时间来证明一切，期待这一天的到来。对此，你们怎么看？欢迎大家留言点赞分享。

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