光量子芯片不再死磕光刻机，或实现弯道超车

芯片技术被人“卡脖子”，一些人埋怨中学生爱好物理得太少，小学就开始学英语，初中二年级才学物理，所以物理人才短缺造成芯片技术落后。

台积电创始人张忠谋甚至扬言：中国以举国之力也研发不出光刻机。

西方有人还说，将光刻机摆在那里，中国也模仿不出来。

的确，研发生产光刻机确实是超难，它是集众多西方国家合力打造的一个现代工业之花，是全世界顶尖科学技术的集大成，不仅中国单独造不出来，连西方任何一个国家也独立完成不了。

一直以来，中国想要引进先进的光刻机比登天都难，尽管有的光刻机生产厂家表示，我们可以卖给中国。但每当中国企业有购买意愿时，他们要么以产能不足来推托，要么因为众所周知的特殊原因迟迟不交付。

根据相关数据统计，仅2020年我国进口总额中就有18%是芯片进口，高达2.3万亿元。

面对现实，国人必须赶超，想办法弯道超车。

比如像汽车制造，传统的燃油车西方已经有了几十年的研制经验，咱们从后面追赶肯定费力，于是用电动车实现弯道超车。电动汽车我国目前处于领先地位，这就是一个很好的例证。

那么芯片能不能实现弯道超车呢？

日前传来喜讯，在独立制造高端芯片方面国防科技大学取得了突破，研制出光量子芯片技术，光量子芯片一旦投入商用，我们无需再死磕光刻机，将对传统芯片构成降维打击。

也就是说，我们换个思路，自研光刻机难度较大，难道芯片只能通过光刻机生产吗？是否有其它工艺也能实现7纳米以下制程芯片的生产呢？

国人是聪明的，我们还真的研发出了一种“黑科技”，不通过高端光刻机也能做芯片，光量子芯片就是这种“黑科技”。

国防科技大学已经成功制备可编程光量子芯片，使光量子芯片朝着市场化迈出关键的一步，也为我国打破芯片难题提供了新思路。

光量子芯片有以下三大优势。

优势一：不依赖光刻机生产芯片。

高端芯片之所以离不开光刻机，原因是只有深紫外线的EUV光刻机才能实施7纳米以下的微纳米加工技术。而光量子芯片摆脱了这个限制。

优势二：性能大幅提升。

由于受困于摩尔定律限制，传统硅基芯片加工工艺基本锁死在3纳米的节点之上。而光量子芯片直接以光为信息传递载体，不存在电子飘移现象，因此更具有精准的操控精度，更稳定的运行能力和更持久的储存时间。

因此，光量子芯片一旦投入商用，将对传统芯片构成降维打击之势。

优势三：中国可以批量生产。

虽然光量子器件加工也需要光刻机设备，但因为根本运行原理不同，对微纳米加工的精细度要求无需像传统芯片那样高，且我国已经实现了自产低端光刻机，用这种低端光刻机就可以支持光量子芯片的加工制作。

比尔盖茨曾经反对芯片不卖给中国，说这会迫使中国自给自足。到时候米国的损失无法估量。

我们的张召忠将军也说过，让他们限制吧，要不了两三年，他们的芯片会烂大街，给我们也不要。

这种情况还真的要实现了。

如今米国坐不住了，一直以来，他们对于先进的科技向来是两手准备，自己有的，拒绝和别人分享，自己没有别人有的，要求别人必须与他共享，现在说，中国不应该把好东西藏起来。这就是霸王逻辑。

期盼光电子芯片加紧投入商用，到时候我们才真正摆脱了卡脖子的局面。