出货78台！中企公布EUV光刻机专利，难怪ASML着急出货了

中国芯片产业发展引发国外企业焦虑

在半导体制造领域，极紫外光刻机（EUV是关键设备之一，对于实现7nm及以下先进制程工艺至关重要。长期以来，中国企业在EUV光刻机领域一直依赖进口，主要供应商是荷兰光刻机巨头ASML。但近年来，中国企业在EUV光刻机自主研发方面取得突破性进展，申请了多项关键专利，有望在未来实现自主可控，减少对进口设备的依赖。

这一进展令ASML感到焦虑，公司着急加大对华出货力度。2023年，ASML向中国出货450台光刻机，毛利率高达51%。自进入中国市场以来，ASML已累计向中国出货近1400台光刻机。人士指出，ASML加快出货的主要动机是担心中国一旦自主研发出EUV光刻机，就不再需要从ASML进口了，因此希望在此之前赚取尽可能多的利润。

中国企业在EUV光刻机领域的专利突破主要集中在两个方面。华为公司申请的一项名为＂自对準四重图案化半导体装置的制作方法以及半导体装置＂的专利，涉及自对准四重成像技术（SAQP）。这项技术有助于减少对高阶曝光机的依赖，或许能让华为在没有EUV曝光机的情况下生产5nm芯片。新凯来公司申请的一项名为＂曝光成像结构、反射式光掩膜版组以及投影式光刻机＂的专利，这是除光源、物镜等关键零部件外的另一项突破。

中国企业在EUV光刻机领域的专利突破将有助于减少对进口设备的依赖，推动国产芯片制程工艺发展。目前，中国大陆最先进的芯片制程工艺仍停留在14nm，与国际先进水平有一定差距。一旦掌握EUV光刻机自主研发能力，将有望突破7nm及以下先进制程，推动国产芯片性能大幅提升，助力中国芯片产业发展。

EUV光刻机技术门槛极高，中国企业要真正实现自主可控仍需时日。EUV光刻机的核心是光源和物镜，目前这两个关键部件中国还没有完全自主解决方案。光源方面，中国科学家已研制出13.5纳米EUV光源，但功率和使用寿命仍有待提高；物镜方面，中国企业已掌握多层膜镀镜技术，但制造精度仍难以满足EUV光刻机要求。

EUV光刻机的整机集成也是一大挑战。光刻机是集成了数千个精密零部件的复杂系统，对于机械、光学、电子、软件等多学科的集成能力要求极高。中国企业在这方面的经验和积累仍显不足。

中国政府和企业对芯片产业发展高度重视，持加大投入力度。2020年，中国政府出台《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》，提出到2025年集成电路领域实现自主可控的目标。2022年，中国大陆集成电路产业销售额达到1.1万亿元，同比增长16.3%。

在政策和资金的大力支持下，中国企业在EUV光刻机等关键设备领域的自主研发能力正在不断提升。未来几年，中国芯片产业发展将进一步加速，国内企业在先进制程工艺上的差距有望逐步缩小。

国外企业如ASML也在加大在华投资力度。2023年，ASML在中国设立了一家独资子公司，专注于光刻机的研发和生产。人士认为，ASML这一举措旨在抢占中国快速增长的芯片设备市场，并为未来在华本土化生产做准备。