前言

ASML高端光刻机进口量短时间剧增，不到三年增长率就达到256%。这一惊人的数据揭示着此前高端国产光刻机制造的迫切。

目前国内对芯片的需求量很大，光刻机的需求自然也随着上升，可是国产光刻机的技术一直进步缓慢，原因何在呢？

可是，近年来美国限制顶尖光刻机企业对华供应高端光刻机。这就意味着在光刻机市场上，我们必须要依赖外国，我们是被动的。

形势严峻，光刻机对外进口依赖增强

虽然这几年中国的光刻机技术的发展进步飞快，但是和世界领先水平相比仍然存在很大差距，尤其在高端光刻机研发的道路上，我们还有很大一段距离。

可是与此相反的是我国芯片产业的大爆发，在当前的国际市场上，我国芯片研发领域已经在世界有了一席之地。

政府和企业都在大力支持本土半导体技术的发展，市场也成为芯片出售的后盾，所以直接带动芯片的市场需求的总量。

国内外对于芯片的需求与日俱增，但是由于国内的光刻机数量和技术有限，这就不得不从荷兰AMSL公司大量购入高端光刻机来满足市场发展的需求。

ASML的光刻机研发是世界公认的顶尖技术，至今都是无可替代的。但凡想在半导体领域做出一番事业的公司都想要争取与其合作的机会。

中国的巨大的市场资源和良好的发展前景，让ASML看到建立互利共赢合作的价值，所以中国一直都是ASML最坚定的合作伙伴。

即使如此，ASML也无法摆脱美国为首的西方霸权主义国家的“威胁”，荷兰政府为了迎合美国在科技领域实施的封锁计策，多次出台高端设备出口管制措施。

其目的就是为了防止ASML这类的科技研发巨头对被封锁和打压的国家提供产品供应，遏制他国的技术发展，从而维护美国的霸权地位。

艰难的瓶颈期，国产光刻机研发技术一再受阻

上面所提及的是目前我国在高端光刻机的需求以及世界光刻机技术企业发展的现状。有人疑惑：我们的国产光刻机没有竞争力么？

纵观我国光刻机发展历程便可发现，我们研发的开始并不晚晚于西方欧美国家，最早的一台光刻机的出现是上世纪60年代初期。

那时的光刻机技术和其他国家相比差距不大，技术的复杂程度也比较低。但随着半导体市场的快速发展，这一局面逐渐发生翻天覆地的变化。

中国则进步缓慢，亦步亦趋，再加上美国为首的其他西方国家多次的封锁和限制，禁止给社会主义国家提供尖端技术产品，中国高端科技的发展一度陷入“瓶颈期”。

21世纪时，我国最先进的光刻机技术达到90nm的精细度，虽然成功研发出了首台，但是大部分的零配件来自国外，所以无法量产。

后来国家成立重点研究的专项，扶持一大批相关产业链的企业，在科学家和企业家共同的努力下，光刻机生产才正式取得重大突破。

直到2019年，美国再次制裁中国，并在我们最需要技术援助和部件供应时大力封锁限制。

中国有望缩短与世界半导体发展距离的愿望再次破灭，美国政府不断向荷兰施压，意在卡住中国芯片制造企业的脖子。

如何突破困局，化被动为主动？

在这种情况下，中国的科技研发要如何做才能突破困局，迎来顺利发展成了我们要持续思考的问题。

同时，让我们欣慰的的一点是，AMSL并没有因为美国的威胁就毅然放弃与中国的合作，究其根本原因绝对不是因为某种情义，更多的是各种利益的综合考量的结果。

要知道在光刻机销售市场上，中国是ASML的第二大顾客，ASML从利益的角度出发也一定会倾向对中国市场的开放，因为他们知道，切断对中国光刻机的供应，全球的半导体市场都会受到影响。

而他们蒙受的损失美国等霸权主义国家是不会承担的，此外他们还站在行业长期发展的角度，看到中国独立研发，突破美国封锁的实力。

他们深知，即便切断高端光刻机供应链，出台各种管制措施等都不能打消中国自主研发的决心和毅力。目前的中国发展日新月异，高端技术的发展只是时间。

核心技术总有一天会被突破甚至超越，那时候所谓的顶尖也终会变得平凡，中国唯有坚持走自主研发，独立自强之路才能不受辖制和霸权。

结语

此前，ASML的副总裁沈波还曾表示：中国对于全球发展半导体产业是非常重要的组成部分，抛开非市场的外在因素，从公司本身角度而言，ASML对于中国市场的投入和支持是非常坚定的。

我们在认识到当前科技发展严峻的局面的同时也要意识到本国的市场优势和自主研发的决心。

即便在发展的过程中会遇到诸多艰难险阻也要咬牙前行，永不放弃。因为世界的局势就是如此，唯有自己掌握核心技术，才能在国际舞台立住脚跟。