从点到链突破，国产EDA加速突围

长江网讯（记者赵萌萌 通讯员武经宣）EDA软件是现代电子设计的核心，被誉为“芯片之母”。在EDA软件平台上，集成电路设计领域的设计师能将思想变为可制造的图形，快速设计出高性能、高可靠性的芯片。

2021年3月发布的“十四五”规划中，集成电路位列七大科技前沿领域攻关第三位，规划也指出要重点攻关集成电路设计工具。

去年武汉印发的《武汉市促进工业软件高质量发展的实施方案》（以下简称《方案》）确定，将集成电路电子设计自动化软件产品作为主攻方向之一。

突破瓶颈　EDA发展提速

“芯片制造是工业4.0、智能制造的基础与支撑，‘卡脖子’问题不解决，工业4.0和智能制造就缺乏牢固的根基。”武汉宇微光学软件有限公司（以下简称宇微光学）创始人刘世元说，OPC软件是EDA工业软件的一种，没有这类软件，即便有高性能光刻机，也无法制造出IC芯片。

宇微光学致力于自主开发IC制造领域“卡脖子”的OPC软件，已研发成功国内首款全自主计算光刻EDA软件LithoGo！、计算光学系统成像仿真CAD软件InspecGo！和光学仿真优化CAE软件OFSS。其中，LithoGo！软件成功开发入选“2022中国光学领域十大社会影响力事件”。

宇微光学掩模优化方案与流程。通讯员供图

刘世元介绍，宇微光学独创的卷积变量分离技术使LithoGo！能够解决光刻模型一次性计算结果在多参数变迁条件下的重复使用难题，大幅度缩减了多参数变迁光刻模拟计算复杂度。公司还首创了无需采用像素化离散的完备解空间全芯片逆光刻技术，计算效率与传统OPC相当且不受像素网格分辨率限制。

“公式要一个个推，代码要一行行敲，我们坚决走自主可控的开发道路。”刘世元说，下一步，宇微光学在产品上将以计算光刻EDA为抓手，向复杂光学系统仿真与优化工具拓展延伸。在市场上，将以实现国产替代为契机，强化自主独创的亮点技术，以“非对称”技术优势直面国际市场竞争。

比肩超越 机遇与挑战并存

“相比起大而全，国产EDA的突破之路在于点工具的登峰。”湖北九同方微电子有限公司（以下简称九同方）相关负责人解释，登峰就是比肩和超越国际标杆产品，这需要大量涉及应用数学、微电子技术和软件实现等领域融合的创新研究，支撑芯片设计的实际需要。

ewave软件操作界面。通讯员供图

九同方成立于2011年，是一家具备国际竞争力的EDA企业。公司由源自硅谷的多名留美博士组建核心研发团队，拥有20项自主研发知识产权，是国内唯一布局射频全工具链的公司。其中，九同方自主研发的片内电磁仿真软件eWave，无论是软件精度还是实测数据均达到国际领先水平，其精度已成为业内标杆精度。

然而，登峰之路仍旧艰辛。

九同方相关负责人介绍，目前国产EDA工具整体上能够商业化、产品化的，大概只能覆盖60% 65%的环节，仍有35% 40%的环节存在空白。

如何打造EDA全流程？九同方相关负责人认为，除了从点工具上突破，争取客户的使用以获得迭代，对于行业而言，EDA企业应争取“连点成线”。

面对EDA生态匮乏的短板，一系列鼓励政策给国产EDA的孕育与发展提供了适时的拉力。

比如，2023年发布《方案》凝聚了武汉发展工业软件的“开放、协同”思维，提出当下要紧抓突破工业软件关键技术、构建企业梯次发展格局、打造工业软件要素平台、建设工业软件标杆园区、强化供需对接应用推广及助推中小企业数字化转型等六大重点任务，通过开放合作、协作创新，打造工业软件发展生态雨林。

“除了宏观层面提供的有利环境，EDA行业内部也正在孕育着新动力。”九同方相关负责人说，随着“云物移大智”的广泛应用，EDA行业面临着从　3.0时代逐渐过渡到4.0时代的更新迭代的机会，而这些新因子正是中国企业有机会加以利用的。

下一步，九同方将实现从点到链的突破，通过产业上下游协同优势赋能，高助“芯”品研发，为中国乃至全球用户提供更先进的EDA工具，从而实现中国芯片产业的快速发展。

编辑：赖俊

值班主任：王冲

值班总编辑：王雪