光刻机，攻克难关，我们要用多少年？

最贵的光刻机来了，3.5亿欧元

日前，全球光刻机大厂ASML首次在其荷兰总部向媒体展示了最新一代的High NA EUV光刻机，据称单台价格3.5亿欧元。而三大芯片制造巨头台积电、三星、英特尔都在抢先订购这种先进的光刻设备，以抢得2nm以下先进制程大规模量产的通行证。

此前，英特尔已经花费巨资，率先获得全球首台High NA EUV光刻机。而台积电和三星订购High NA EUV预计最快2026年陆续到位。可以预见，2026年，将是2纳米芯片制程大突破的时代。

那么，这台单台最贵的光刻机，到底有多大呢？

ASML发言人Monique Mols介绍，一套High NA EUV光刻系统的大小等同于一台双层巴士，重量更高达150吨，相当于两架空中客车A320客机，全套系统需要250个货箱来装运，装机时间预计需要250名工程人员、历时6个月才能安装完成。

就是这么一个庞然大物，成了摆在我们面前难以逾越的大山。有钱，买不到，而先进制程芯片，尤其是7纳米以下先进制程芯片，更是离不开这种被称为极紫外光的EUV光刻机。

看来只能自己造，但一台光刻机的复杂程度又是我们当前难以克服障碍。此前，甚至ASML总裁曾说，就是把图纸给你们，你们也无法造出合格的光刻机，虽然此话明显夸大，他们也不可能把图纸给我们，但此也从另一个侧面看出，光刻机的复杂程度。

目前，我们的光刻机水平与国际先进水平还有很大的差距。数据显示，2022年，我国晶圆厂商半导体设备国产化率提升至35%，但仅能满足晶圆厂商大部分成熟制程（28nm及以上的逻辑芯片等）以及少部分先进制程的需求。更高精度的芯片，就需要用到更高级的光刻机系统，目前还无法突破这样的瓶颈。攻克光刻机难关，让极紫外光EUV光刻机不再成为我们制造高精度芯片的壁垒，是当前我们头等大事。

目前，上海微电子是我国唯一可量产光刻机的企业，其90nm DUV光刻机在2016年已经通过验收，但45nm、28nm光刻机仍在研发过程中尚未量产，亟待突破。

只是，我们攻克EUV光刻机这个难关，还需要多少年？

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