商务区又一总部研发大楼,封顶!

近日,源卓微纳总部研发大楼(一期)主体结构顺利完成封顶,项目迎来重要进展,向竣工投用又迈进了一步。

建设现场,塔吊林立,机器轰鸣,一片热火朝天的繁忙景象。建筑虽尚未褪下防护网,但项目已初具规模,即将开启源卓微纳的“新起点、新征程、新未来”。

源卓微纳科技(苏州)股份有限公司成立于2016年,经过近8年的开拓,公司市场占有率、品牌影响力、业务体量快速提升,在整体规模上到了一个新的台阶。为深化公司运营机制、优化企业商业版图,源卓微纳在不断的市场变化中拥抱变化,于组织架构、产品研发、公司战略上细化运作。

目前,源卓微纳重点开发了无掩模及投影光刻曝光机、数字光学设备关键部件及装置等产品,为高端电子电路、IC载板、先进封装、微机电系统(MEMS)、泛半导体、太阳能和微纳器件制造提供生产设备和工艺解决方案。新研发大楼应运而生,将进一步赋能公司产业升级,为源卓微纳高速稳健发展再添强大引擎。

总部研发大楼的建立是践行源卓微纳发展规划的重要举措,展示出企业集中技术力量深耕产品、推动产业创新升级的决心。企业负责人表示,源卓微纳将以研发大楼的封顶为新起点,不断加大研发投入、提升创新效能,为半导体和光伏行业带来更多的发展和突破。

接下来,商务区将继续全力抓好保障工作,实时跟踪项目进度,及时为企业纾困解难,推动项目早竣工、早投产、早达效,助力企业快速发展,推动产业转型升级,力争为园区高质量发展注入新的动力、激发新的活力。

(来源:苏州工业园区管委会)

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页面更新:2024-02-22

标签:大楼   总部   光刻   苏州   半导体   新起点   产业   项目   商务   公司   企业

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