ssmb光刻机能否打破ASML的垄断？能否为芯片制造带来新的突破？

SSMB光刻机是一种基于新型粒子加速器光源“稳态微聚束”的光刻技术，有望为EUV（极紫外）光刻机的自主研发提供新的技术路线。

SSMB光源能够产生高功率、高中频、窄带宽的相干辐射，波长可覆盖从太赫兹到极紫外波段，具备向更短波长扩展的潜力。

SSMB光刻机的研发目前还处于初级阶段，需要进行更多的理论分析、数值模拟和实验验证。目前，清华大学工物系唐传祥教授研究组已经在国际上率先完成了SSMB原理验证实验，并在《自然》杂志上发表了论文。 该研究得到了清华大学自主科研专项的支持，并已向国家发改委提交“稳态微聚束极紫外光源研究装置”的项目建议书，申报列为“十四五”国家重大科技基础设施。

SSMB光刻机能否打破ASML的垄断，能否为芯片制造带来新的突破，还需要看未来的科技攻关和产业化进程。

目前，ASML公司是世界上唯一的EUV光刻机供应商，其EUV光源采用的是高能脉冲激光轰击液态锡靶，形成等离子体然后产生波长13.5纳米的EUV光源，功率约250瓦。 而随着芯片工艺节点的不断缩小，预计对EUV光源功率的要求将不断提升，达到千瓦量级。 SSMB光源有望实现大的平均功率，并具备向更短波长扩展的潜力，为大功率EUV光源的突破提供全新的解决思路。

SSMB光刻机是一种具有前瞻性和战略性的技术方向，对于提升我国芯片制造水平和自主创新能力具有重要意义。清华大学工物系在这一领域勇担重担，与国际合作伙伴共同推进SSMB光源的研究和应用，展现了我国在加速器物理和技术领域的领先水平和创新能力。