3年突破光刻机！15年破解所有芯片技术，我们真的行吗？

我国即将掌握国产光刻机技术？

近期，北大教授林毅夫在“2021中国企业未来发展论坛”上曾提到，ASML的CEO彼得·维尼克担心，若不将光刻机技术卖给中国，预计三年后中国将自主掌握该技术。从历史经验看，中国的生产成本较低，有可能导致ASML退出国际市场。维尼克多次表达过这种忧虑，早在五月初，他在白宫举行的半导体CEO视频峰会后曾表示：“对华出口管制将迫使中国争取技术自主，15年内他们将做出所有东西。”

自2018年起，芯片和光刻技术成为炙手可热的领域。中国在芯片领域一直受制于人，尤其高端光刻技术更是难以突破。然而，荷兰的ASML作为光刻机领域的主导者，敢于预言中国在三年内掌握光刻机技术，并在十五年内掌握芯片的所有技术，这背后必然有深入的专业分析。

中美竞争日趋激烈，我们离自主光刻机技术还有多远呢？

第一章 芯片：全球科技竞赛的关键

无数次地强调，芯片已成为21世纪全球科技竞赛的关键。5G、人工智能、大数据、物联网等前沿技术都离不开高精度的芯片作为支撑。简而言之，芯片已超越石油，成为推动世界经济增长的新引擎。在芯片产业链中，光刻技术是制造难度大、工艺复杂的核心环节。它在科技界的地位，犹如蒸汽机、发电机、计算机在前三次工业革命中的地位。有人甚至说光刻机难于制造原子弹，这是因为它需要凝聚全球人类智慧的结晶。

光刻机市场的霸主是荷兰的ASML，唯有日本的尼康、佳能能在中端光刻机领域与之一较高下。至于7nm以下的高端光刻机，则完全被ASML所垄断。ASML所主导的高端光刻机分为深紫外线光刻机和极紫外线光刻机，分别适用于生产7nm及以上制程芯片，以及7nm以下制程芯片。其中，EUV光刻机是当之无愧的强者，以紫外光刻画电路到硅晶圆上，要求精度极高，如华为、苹果等公司的5nm芯片就含有上百亿个晶体管。作为芯片产业的明珠，EUV光刻机显得格外珍贵。但其昂贵的售价、复杂的配件以及全球顶尖技术的融合，使其制造异常艰难。在EUV光刻机中，荷兰的腔体技术、英国的真空技术、美国的光源技术、德国的光学系统技术以及日本的材料技术共同构成了不可或缺的部分。工程院院士吴汉明曾指出，让一个国家或地区单独制造EUV光刻机几乎是不可能的。

然而，高端光刻机的难以制造还有另一个因素，那就是经济效益。与国之重器如原子弹相比，光刻机是一个市场化产物，需要考虑到长期的经济回报。所以，并非光刻机比制造原子弹更难，而是在之前还未到必须不惜一切代价的程度。

第二章 美国新政：科技领域的抉择

五月十二日，美国通过《无尽前沿法案》，重点关注科技领域的发展。该法案旨在通过对美国国家科学基金会的1000亿美元投资，支持人工智能、量子计算、网络安全等十大未来新兴科技领域的研究。此举标志着冷战后，美国重新意识到政府主导的科技创新对于科技振兴的紧迫性，其对中国的影响不容忽视。

面对如此重要的光刻技术，美国自然不会轻易放手。根据美国出口新规，禁止荷兰的ASML向中国出口EUV光刻机，这也是导致中芯国际在先进制程上被限制在14nm以内的原因。如何解决这一困境？我国一直在致力于光刻技术的研发，上海微电子已经实现了28nm工艺的国产光刻机量产，

预计今年底将开始交货。虽然与ASML的EUV光刻机相比还有巨大差距，但这已足以满足中端芯片的需求。据此推测，距离高端光刻技术并非遥不可及。

不可否认，ASML声称中国将在三年内掌握光刻机技术、在十五年内掌握所有芯片技术，这可能只是一种竞争策略，但我们不能因此而懈怠。我们需要全力以赴，打破垄断，为自主光刻技术的实现而努力。

与此同时，中国整个科技领域也正面临着类似的挑战。过去十年，我们的移动互联网产业蓬勃发展，但它实际上是在倚赖他人的基础上建立起来的。无论是BAT、美团、抖音的应用，还是华为、小米等公司的手机，都离不开欧美日韩的芯片、存储器和软件支持。这并非真正的科技创新，只能算是模式创新，我们必须醒悟，以勤奋换取发展，而不是依赖人口红利来获取快速利润。

正如过去十年我们为了摆脱石油依赖而大力发展新能源车产业，如今我们必须突破芯片的依赖，使其替代石油成为中国进口额最大的商品。我们的国产光刻机虽然与ASML的技术相比仍有差距，但它是我们迈向自主创新的重要一步。只有全社会一起努力，抛弃短期主义，埋头科研，我们才能在高端技术领域取得突破，实现科技创新驱动的发展。

总之，中国离自主光刻技术并不遥远。面对国际竞争的压力，我们必须坚定信心，勇敢拼搏。正如历史上的每一次技术革命都需要勇气和智慧，我们也必将在自主创新的道路上取得成功，实现中国高科技的崛起。

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