辟谣了！ASML公司正式官宣，美媒：中国芯片或被卡在28nm

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中美芯片战争升级，ASML正式宣布进一步收紧对中国28nm及以下光刻机供应

最近,荷兰光刻机巨头ASML公司正式宣布,将从2023年9月1日起,进一步收紧对中国28nm及以下光刻机的供应,这无疑打击了中国芯片产业实现28nm及以下工艺的梦想。不过,即便如此,中国仍有望通过自主研发,实现28nm芯片量产和“去美化”。

一、ASML宣布收紧中国28nm以下光刻机供应,外媒称中国芯被限制在28nm

7月11日,ASML公司CEO表示,从9月1日开始,其将不再向中国出口能够生产28纳米芯片的最先进光刻机,这标志着中美芯片战又进入新一轮升级。此前,ASML只是停止了对中国7纳米及以下的EUV光刻机出口,这次直接将限制提升到了28纳米DUV光刻机。

外媒报道表示,ASML的举动几乎将中国困在28纳米节点,使中国芯片产业在先进制程上难以取得突破。毕竟28纳米芯片在当今仍有重要作用,能够满足中国75%以上的工业需求。这将直接影响到中国在人工智能、5G和电动汽车等领域的发展。

但值得注意的是,ASML此次并未彻底禁止28纳米光刻机出口,1980Di系列光刻机仍可出口中国,其制程精度在38纳米左右。这也意味着中国仍有可能通过这款光刻机生产进口28纳米芯片。当然,要实现完全自主仍任重道远。

二、中国企业正在加速自主研发,28纳米光刻机指日可待

尽管局势严峻,但中国企业并未放弃,仍在积极布局28纳米及以下工艺芯片的自主研发和生产。以下几点值得关注:

1. 中芯国际早前已获得ASML 28纳米光刻机,并加速扩产28纳米芯片产能。仅今年上半年其28纳米芯片产能就提升60%。这为中国积累了宝贵的28纳米光刻机使用经验。

2. 在哈尔滨工业大学等高校的努力下,中国已在28纳米光刻机的多个关键环节取得重要突破,包括光源、光学组件、浸没式光刻系统等。这为中国研发自主化28纳米光刻机奠定了基础。

3. 根据最新消息,上海微电子28纳米光刻机研发工作进展顺利,有望在两年内实现光刻机的 LOCALIZATION,加速中国在这一制程上的自主可控。

4. 在材料和设备等多个环节,中国企业近年来也取得长足进步,中国的EDA工具、光刻胶以及各类设备水平不断提升,为实现 28纳米芯片自主提供有力保障。

5. SMIC、长鑫存储、长江存储、华力微等多家企业已宣布正式量产28纳米芯片,积累了宝贵的生产经验。随着设备进一步趋同世界先进水平,中国实现28纳米芯片自给自足指日可待。

三、中国仍需加快布局,争取尽早实现28纳米芯片“去美化”

尽管形势严峻,中国芯片企业仍需继续加快自主化步伐,争取在最短时间内实现 28纳米芯片的自给自足,确保中国科技产业链供应链安全。具体建议如下:

1. 加大财政支持力度,提升企业研发 28纳米光刻机的积极性,鼓励不同企业采取不同技术路线,争取尽早实现量产。

2. 加强产学研深度协作,发挥高校优势,突破光刻机关键技术瓶颈,为企业提供强大技术支撑。

3. 继续扩大先进制程芯片试产规模,大力引进海外人才,积累设计和制造经验。提升产业链协同创新能力。

4. 利用好ASML提供的1980Di光刻机窗口期,大力增加28纳米芯片产量,积紁培育下游应用,争取在真正自主化之前实现过渡。

5. 广泛开展国际合作,团结志同道合的贸易伙伴,避免中国芯片产业与世界脱钩。

虽然当前形势严峻,但中国拥有世界上最完整的产业体系,也有着最庞大的市场需求。只要坚持自主创新,加强科技进步,中国终将能够实现核心技术的自主可控,有信心化解来自美国等的技术封锁,保障国家科技安全。中国芯片梦想虽遭遇障碍,但绝不会止步,最终一定能够实现28纳米及以下芯片技术的自主化,届时将会对全球芯片格局带来颠覆性影响。

我们有理由相信,时间一定会证明中国终将在芯片领域书写新的辉煌篇章。