百亿元光刻机面临集体“砖化”，14纳米产能恐降六成?

最近，荷兰政府突然宣布，将从9月1日起禁止向中国出口多种先进的光刻机，其中就包括浸没式深紫外(DUV)光刻机这一我国芯片产业急需的关键设备。此举被业内视为三方合谋的进一步落实，中国高端芯片产业面临重重困难。

众所周知，光刻机是芯片制造的“心脏”，决定着工艺水平和产能。全球光刻机市场被美日荷三国垄断，其中荷兰ASML占据约20%的份额。中国企业成功研发先进芯片，必须依赖进口光刻机。

然而随着美国频繁收紧出口管制，日本和荷兰也纷纷宣布加入限制行列。三国联手切断我国光刻机来源，直接阻断了中国突破高端芯片关键工艺的道路。

以浸没式DUV光刻机为例，其最小线宽已经达到13纳米，是打造7纳米以下工艺芯片的必要设备。荷兰实施出口禁令后，我国芯片企业将无法获得该类关键器件。

业内担心，此类禁令直接导致中国先进芯片产业陷入瘫痪。一旦无法获得关键光刻机，14纳米及以下工艺芯片的量产就成为泡影。中国多年来在芯片产业的布局也将前功尽弃。

更令业界担忧的是，已售出的光刻机也面临“远程砖化”的风险。生产光刻机的荷兰ASML可以轻松远程控制已售设备，将其锁定成为废铁。这无疑是对我国巨额投资的毁灭性打击。

由于缺乏关键零部件支持，这些“砖化”设备还面临快速报废的危险。业内预计，我国通过正规途径获得的光刻机，未来大多难逃“加速报废”的厄运。

尽管形势不容乐观，但中国企业还没有放弃光刻机自主研发的努力。业内期待靠自主创新，突破光刻机技术壁垒。这需要持续投入，汇聚各方资源和人才。

同时，我国也开始对美日荷的关键材料出口实施管制。镓锗等原材料对光刻机生产至关重要，但储量和产量主要掌握在中国。我国的反制直接打击三国芯片业的命脉。

让我们拭目以待，在全球芯片大国博弈中，中国企业是否能突破重围，实现核心器件的自主可控，从而推动国内高端芯片产业向前发展。