上海微电子再进一步！其ArF光刻机已进入产线，水平超过了佳能

近年来，因众所周知的原因，国内半导体制造业得以快速发展，中企对光刻机的需求也日益增加。但是，中高端光刻机一直以来都被国外所垄断，再加上限购规则，中企想要进口中高端的也难，因而国产替代也必然势在必行。

值得一提的是，国内光刻机制造商上海微电子，近日传来好消息，其生产的ArF光刻机已进入中企产线，且水平超过了佳能。

上海微电子ArF光刻机进入中企产线

据每日经济新闻消息，日前，在投资者互动平台上，有投资者向北京燕东微电子提了两个问题：公司募集资金采购的上海微电子ArF干式光刻机属于前道光刻机吗？是否可用于逻辑芯片生产？

燕东微电子回复称：募集资金是用于12寸晶圆生产线建设，月产能4W片，工艺节点为65nm，产品定位为硅光芯片、显示驱动IC等。从回复来看，虽没确认是否属于前道光刻机，但燕东微电子已采购上海微电子ArF光刻机，正布局65nm工艺节点。

事实上，从目前的信息来看，上海微电子是国内唯一掌握光刻机设计、集成和整机制造的制造商，已可以生产90nm的ArF光刻机。90nm光刻设备通过曝光技术是可以做出更先进工艺的，比如两次可做出45nm，三次曝光最高达22nm。

因此，上海微电子的ArF是能够满足燕东微电子65nm工艺节点的布局的，而燕东微电子的选择，也足以证明了国产ArF设备是值得信任的。

重要的是：上海微电子的光刻机水平已超过佳能

大家都知道，光刻机是芯片制造环节的核心设备，而世界上能做光刻机的也只有寥寥数家。其中，ASML是处在垄断地位，不仅独占EUV市场，还占据了高端点的DUV市场很大的份额。

另外，还能生产光刻机的厂商，还剩下佳能、尼康以及上海微电子，市场主要集中在ArF、KrF和G线、I线中低端光刻机上面。其中尼康的光刻机技术，在制程上比佳能、上海微电子高，后两者之前水平差不多。

如今，上海微电子已经可以生产ArF、KrF和i-Line光刻机，而佳能目前出售的光刻机涉及i-line到KrF级别，上海微电子ArF已经进入产线，这一点就比佳能强了。

当然，不得不承认的是，上海微电子在光刻机方面与国外确实还有差距，不过，值得肯定的是，它也是全球能够生产前道光刻机的四大厂商之一。事实上，上海微电子在后道封装领域尤其突出，甚至做出了国内首台2.5D/3D先进封测光刻机。

在后道光刻机方面，上海微电子占据国内市场80%份额，占全球市场也有40%的份额。所以说，上海微电子本来水平就挺不错的，目前又可以供应ArF光刻机，并正式进入生产线，其水平已经超过了佳能。

结束语

一直以来，都有消息说上海微电子能够生产ArF光刻机，但是，此前却没有传出企业使用的消息。如今，上海微电子ArF光刻机能够进入中企产线，已经是向前迈了重要的一步。

当然，这只是前进的一小步，光刻机领域还有更多的技术需要攻克。未来，想要打造完全自主可控且更先进的国产生产线，还需要众多科企一起努力。

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