国产光刻机传来消息，上海微电子进入新阶段，比尔盖茨的担忧成真

伴随着全球半导体市场的快速发展，芯片制造技术的迭代速度也在不断加快。而受制于外部环境的变化，国内芯片代工企业想要扩建产能却并不容易。据了解，受到《瓦森纳协定》以及老美方面的干涉，中芯国际曾荷兰光刻机巨头ASML公司订购的EUV光刻机，卡在了最终的发货环节无法交付。

进入2023年之后，美、日、荷更是就先进芯片的制造设备的出口达成一致，收紧了部分DUV光刻设备的销售。此举，也一定程度的影响到了国内芯片代工产能的爬坡，中芯国际更是传出了部分工厂产能将会延期的消息。

如此一来，中企想要扩产芯片代工规模，就必须解决芯片设备的供应问题。在这样的局面之下，国产光刻机也传来了好消息，上海微电子也即将进入新的发展阶段。

据相关数据统计：上海微电子是国内顶尖的光刻机设备制造商，其生产的后道光光刻机设备，更是在国内占据了80%的市场份额（全球市场40%）。因此，在美新规问世之后，这家企业就被寄予众望，希望其能够早日解决芯片设备的技术问题。

从官网来看，上海微电子已经能够生产出90nm制程的ArF光刻机，通过多重曝光以及工作台技术的辅助，可以被用于生产48nm~65nm的芯片产品，但却始终没有传出该设备进入生产线投产的消息。

近日，就有网友爆料，国产光刻机已经进入了新的阶段，即上海微电子自主生产的光刻机设备，已经进入到了国内供应链正准备通电试运行。

而这次爆料的消息可信度非常高，因为，采购该设备的厂商北京燕东微电子，正在建设一条12英寸晶圆的生产线，该产线的名称为《基于成套国产装备的特色工艺12吋集成电路生产线项目》，目标是打造中国首条国产自主可控的芯片生产线。

按照规划，该项目的一期是在今年的4月份进行试投产，相关的设备均已采购到位。对于上海微电子而言，这也意味着自研光刻机设备进入到了新阶段。

在此之前，国产光刻机进展缓慢的主要原因，就是缺少实际的投产工厂。设备生产出来却没有人下订单投产，导致设备的参数调教速度缓慢，进而影响到了设备的更新、迭代速度。

如今，国内大力发展半导体产业，上海微电子自主研发的光刻机设备也就有了用武之地。所以说，这次国产光刻机的发展，进入到了新阶段。

之前比尔盖茨就曾表示，限制相关芯片企业的出货，最终，只会导致部分美国人丢失自己的高薪岗位，而中国则会在这样的背景之下，逐步实现自给自足。

如今来看，比尔盖茨的担忧已经成真了，国产芯片的生产线建设完成，就意味着国内将逐步实现芯片制造产业的闭环。通过国产设备替代的方式，来完成芯片的全流程制造。而这种模式一旦成功的运作起来，相关领域的技术突破速度势必会大幅度加快。

另外，上海微电子据传一直在攻坚28nm制程的浸润式光刻机，只不过部分零部件的供应问题还没有解决。如果传言切实，国产28nm制程光刻机，很有可能会在近两年完成首台设备的交付。届时，仅凭借国产设备，就能够量产大多数14nm以上的芯片产品。

按照工程院院士倪光南的说法，28纳米等成熟制程工艺，就已经可以基本满足除智能手机之外大多数科技产品的使用需求。届时，国产芯片无论是自给率还是产业链结构，都会迎来新一轮的“爆发”期。

综上所述，芯片产业之前是全球化的运作模式，在全球化的路线走不通之后，国内外企业，势必会在芯片领域投入大量的研发资金，打造一条“去美化”的产业链。而这将不利于美国半导体维持自己的领先地位，英特尔、AMD等美系芯片厂商的大规模裁员，也恰恰证实了比尔盖茨的担忧。对此，你又是怎么看的呢？欢迎大家留言、讨论！