Science - 外显子结构控制mRNA修饰与稳定性

芝加哥大学/HHMI何川等研究人员通过Massively Parallel assay for m6A (MPm6A)平台分析m6A修饰位点的内源环境对其修饰效率的影响,发现mRNA m6A修饰效率受其编码基因的外显子结构影响;基因中间的外显子,只要不是特别长,通常处于m6A修饰抑制状态,抑制它们的“元凶”是剪切相关复合物(具体为:外显子拼接复合体 Exon Junction Complexes (EJCs));外显子拼接复合体抑制m6A修饰的效果是,对于绝大部分基因,增加其(mRNA)稳定性(1)。

Massively Parallel assay for m6A平台分析影响mRNA m6A修饰的内源环境(1)


外显子结构控制mRNA m6A修饰的机制(1)


该项工作2023年1月27日发表在Science;研究人员表示这种新层次转录调控机制说明了外显子-内含子分布对转录的影响,基因治疗等情况下引入外源基因表达的时候(通常没有内含子)需要考虑这一点(1)。

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“表观转录组”特异性机制的重要进展,不过这种”外显子结构-剪切复合物结合-m6A修饰-mRNA稳定性”调节路径在RNA可变剪切的巨大功能影响下有点“被掩盖”的感觉,后续需要对其独立剪切的生理/病理功能研究。


参考文献:

1. P. C. He et al., Exon architecture controls mRNA m6A suppression and gene expression. Science (80-. ). (2023), doi:10.1126/SCIENCE.ABJ9090.

原文链接:

https://www.science.org/doi/10.1126/science.abj9090

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页面更新:2024-04-29

标签:芝加哥大学   稳定性   结构   复合体   复合物   转录   研究人员   基因   抑制   机制

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