众所周知，老美对中企进行“断芯”制裁，其重要的一环就是光刻机，尤其是EUV光刻机。而在全球范围内，只有一家荷兰光刻机企业，具备量产EUV光刻机的能力，它就是ASML公司。

虽然ASML公司是一家荷兰企业，但由于它的生产线上使用了一些美技术配件，以及大量的欧美顶尖技术配件，所以ASML公司是没有出货的自由选择权的，至少目前还需要看老美的脸色行事。因此，ASML公司对中企断供EUV光刻机就成了老美对华为等国内芯片企业“卡脖”的重要筹码。

不过，“锋芒”也是一把双刃剑，EUV光刻机固然重要，但如今传统硅电子芯片已经发展到3nm节点，且2nm工艺和1nm工艺也在研发中。但由于已经逼近了硅电子芯片的物理极限，研发的难度更大，且成本也更高，这是脱离商业原则的，所以绕开EUV光刻机，也成为全世界需要解决的科技难题。

近日，业内传来3个重磅消息，都和EUV光刻机有关。外媒也发表了比较客观的评论，ASML公司正在被中美企业共同“抛弃”。这到底是怎么回事呢？

消息一：台积电“3D Fabri”封装技术，不再需要EUV光刻机

据美芯片巨头AMD透露，刚刚发布的全新GPU产品，它采用的是RDNA 3架构，且通过台积电的“3D Fabri”封装技术，实现了在不依靠EUV光刻机的基础上，实现了性能的提升以及成本的降低，让“芯片制造绕开EUV光刻机”成为可能。

消息二：美光官宣成果绕开EUV光刻机

据美芯片巨头美光透露，已经实现量产的LPDDR5X芯片，已经绕开了EUV光刻机，通过DUV光刻机，加上多重曝光技术，也能实现量产。同时，这款芯片的性能也得到了15%的提升，功耗有了20%的降低，不用再依靠EUV光刻机了。

消息三：华为发布超导量子芯片专利

除了美企之外，中企也在努力地“绕开光刻机”，尤其是华为。华为除了刚发布的超导量子芯片专利外，在光子芯片、芯片堆叠技术方面，也有很大的突破。而这些全新的技术都只有一个目的，就是为了不依赖EUV光刻机实现芯片制造。

不可否认，ASML公司生产的EUV光刻机确实很厉害，它在全世界的供应链就超过了5000家，集合了全球各个领域最顶尖的供应商，一部EUV光刻机就多达10万个零部件，制造难度很大，机器结构非常复杂，这也让自研EUV光刻机几乎变成了“不可能完成的任务”，但正面难以突围，侧面为何不行？条条大路通罗马！

还记得，在美断供中企后，国内科技企业加快了国产光刻机的研发，然而，ASML公司高管直接表态，就算公开EUV光刻机图纸，你们也造不出！这种态度是不可原谅的，就算ASML公司能够正常向中企供货，或许国内科技企业也不会低头了，绕开EUV光刻机将成为未来全世界科技领域的共同目标，一句话，ASML公司可能要凉凉了！对此，你怎么看呢？欢迎评论留言！