国产90nm光刻机能生产14nm的芯片吗？

昨天，上海官方宣布了一则重磅消息，上海中芯国际已经实现14nm先进工艺规模量产。此外，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等也实现了突破。

原来很多小伙伴以为90nm光刻机就只能生产90nm制程的芯片，只有14nm的光刻机才能生产14nm制程的芯片，其实这是个误解，就像照相机底片一样，经过多次曝光可以叠加出更清晰的照片。

90nm光刻机经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光可以达到22nm的芯片。但是曝光次数越多，芯片的良品率就越低，所以一般情况下能够控制在28nm的水平。

所以本次上海中芯国际宣布量产14nm制程的芯片，若采用的是国产90nm光刻机，估计良品率会很低，成产成本肯定也不低，但中芯国际对外宣称其良品率已达到国际先进水平，则可以判断采用的应该不是国产90nm光刻机。

2021年中芯国际向ASML购买了价值11亿美元的DUV光刻机，据说今年一季度ASML像我国供货了23台，则中心国际宣传量产的14nm工艺芯片应该就是利用这批进口的DUV光刻机，DUV光刻机又称深紫外线光刻机，主要用于10 130nm光刻机，相对于EUV光刻机，DUV光刻机是ASML公司二线的产品。

最近美国已放出风声称，会加大对我国科技领域的制裁，所以，利用别人的光刻机，随时有被制裁断货的风险，只有发展国产光刻机，才能不被掐脖子。

可喜的是，上海微电子去年年底就宣称即将交付28nm光刻机，28nm光刻机经过多重曝光能够生产14nm芯片，在极限状态下甚至可以生产10nm的芯片，所以，希望尽快传来国产28nm光刻机的好消息！[加油][加油][加油]