中企订购多品种光刻机，这一次依然没有国产的身影！

在相关限制之下，华为所遭遇的困境，让国内的企业彻底明白了国产技术的重要性，特别是在半导体领域，国家也逐步加大了相应的投资，在这三年的时间里，每年新注册的半导体企业都破万家。

中国作为全球芯片消耗最多的市场，但至今无法实现芯片的国产化，就算是28nm的成熟工艺，也还是要依赖海外的技术，而问题就出在核心设备上，光刻机成为了难以逾越的一道鸿沟。

在经过中科院以及国内厂商的不断努力之下，国产半导体设备也迎来了真实有效的突破，其中表现最优异的就是中微半导体了，其研发的5nm刻蚀机，俨然成功进入到了台积电的生产线。

而上海微电子的表现也同样优异，去年富士康在青岛新建了一座工厂，这并不算什么稀罕的事，但其引进了一台国产的光刻机设备，直接吸引了国内外的眼球。

这台设备是由上海微电子研发的IC后道光刻机，虽然使用的范畴仅是最终的封装阶段，但这却是一台完全自主研发的国产设备，同时还得到了富士康的支持，这些因素结合起来，其意义就不一样了。

在中企启动技术自主研发之后，也出现了许多硬气的企业，从此前的大疆无人机、到后面的海康威视，再到如今的科大讯飞，这些企业都遭遇到了老美的限制，但似乎没有影响到它们的实际经营状态。

而其中的原因就在于，这些企业已经实现了技术的自主化，并且大量采用了国产的供应链，因此根本就不用担心老美的相关限制，但在芯片领域可就没有这么硬气了，这一次国产设备可谓是颗粒无收。

国产设备的研发困境

光刻机是制造芯片最核心的设备，虽然有很多家企业都在做光刻机，但用于14nm以下芯片制造的EUV光刻机，全球范围内只有ASML能够制造，而国内如今获取DUV光刻机都困难，更不用说最先进的EUV光刻机了。

也正因为如此，限制住了国产芯片的发展，目前最尖端的工艺仅为14nm，始终无法进一步完成突破，而上海微电子作为国内最先进的光刻机厂商，目前的水平依然处于90nm上，虽然此前一直传出要交付28nm的光刻机，但直到如今依然没有确切的消息传出。

要知道一台光刻机所需要的零部件就超过10万个，还需要用到二十多个国家尖端的技术，能把这些技术结合起来已经不容易了，更不用说把他们安装到一台设备上了，因此国产光刻机想要完成突破，肯定是要面临着很大的难题。

面对庞大的中国市场，ASML始终都没有放弃过，一直都在申请相应的授权，此前也已经恢复供货中芯国际，但仅限于相对落后的DUV光刻机，对于先进的EUV光刻机，就算是外企也无法将其带入中国市场。

国产设备颗粒无收

但好消息就是，除了EUV光刻机之外，ASML似乎已经逐步恢复了对于国内产商的供应，而根据上海吉塔半导体的采购清单上，我们也能够看得出大概了，在光刻机上，国产供应链可以说颗粒无收。

在看到这样的消息之后，很多人会觉得这家半导体企业不支持国产供应链，但如果从实际角度出发的话，我们也能够理解这样的做法，毕竟先进的产能肯定是要与相应的设备结合的，不适合的配套设备只会拖垮双方。

不过根据采购清单进行分析，这一次积塔半导体采购了1台KrF光刻机，和两台i-line光刻机，而这两种设备上海微电子，很早之前就已经实现了技术突破，相应的产品也已经走进了国产供应链，这就有点让人觉得奇怪了。

但通过更深层次的分析，我们也能够发现其中的问题，目前上海微电子的KrF光刻机的精度仅为90nm，综合考虑到良品率、相关性能上的优势，最终选择了ASML也就不奇怪了。

我们应该更理性地去看待这个问题，更换国产供应链是没有错，但国产供应链的设备厂商，肯定也要拿出相应符合市场要求的技术，毕竟企业的本质是为了赚钱，不可能为了扶持国产供应链，而去做亏本的买卖。

因此整个问题的关键点，就在于加速突破国产技术上，只要产品得到了认可，依靠国内庞大的市场，后续肯定有赚不完的钱，但想着投机取巧的那些企业，肯定是得不到什么好处的，对此你们是怎么看的呢？