EUV光刻机，中科院官宣，这相当于确认了

当芯片的制造工艺进入到7纳米或者5纳米时，就需要EUV光刻机上场，到不是因为DUV光刻机无法完成制造任务，主要是考虑到商业成本，EUV光刻机是一个更好的选择。

所以从商业量产的角度来看，EUV光刻机是必要的，但是大家也了解，在EUV光刻机上，目前只有ASML一家可以提供，但是受到美科技霸权的制约，其无法对我们进行交货。

不过之前中科院方面就已经表示，要对卡脖子的光刻机问题进行解决，很显然，这是直指EUV光刻机。

对光刻机有所了解的朋友会知道，EUV光刻机与DUV光刻机的明显区别，就是光源的不同，一个是极紫外光源，另一个是深紫外光源。

所以对于EUV光刻机的研发来说，光源是最为重要，也是最为艰难的部分。

而现在，我们就看到了这方面的新动态。

根据中科院官方发布的信息来看，其在EUV光刻机方面开始进行多层次的招聘工作，这涉及到多个岗位，分别是：

热结构设计师，负责EUV光源项目的热结构及真空等设计研发工作

激光与物质相互作用研究，负责EUV光源相关物理实验和理论研究。

EUV光源自控系统设计。

EUV光机结构设计。

EUV光学设计、建模、模拟仿真、集成系统或设备的EUV光学模块以及光学性能鉴定和故障排除。

可以看到，在EUV光刻机的光源部分，中科院已经将其进行了细致的分解，然而这只是普通员工的工作，在EUV光刻机上，还有特别研究助理的工作，而且全部要求博士后，其中包括：

极紫外到X光波段光源的研究。

光刻机EUV光源产生理论和实验研究。

EUV极紫外光源元件超精密制造与检测技术。

因此综合来看，中科院在EUV光刻机的关键部分，也就是EUV光源上的研发，相当于已经确认进入了实质阶段。

这当中包含了两层含义：

其一，此次中科院公布了如此详细的用人计划和标准，这显然表示中科院已经在该方面展开了研发工作，确定了研发的方向和标准，不是一拍脑袋一片空白，空喊研发口号。

其二，此次的用人计划，在用人规模上并不大，这些岗位都是只有1到2个人的需求，大部分岗位只有1个人的需求，因此这表示，针对EUV光刻机光源的研发，此次从社会面招聘，只是人才的补充。

因为在关键的EUV光源产生研究、光源加速器研究以及超精密元件研究等方面，都有相关研究员在进行，新进员工只是特别研究助理，而且还是博士后级别。

我们还关注到，此次对于EUV光源的产生研究上，其实也包括对波长更短的X光波的研究，也就是说，中科院已经在布局EUV光刻机的下一代技术。

因此结合来看，在EUV光刻机最艰难的EUV光源上，中科院已经进行了系统而全面的拆解，并形成研发任务和方向，而且相关项目已经分配到人。

现在来看，增加相关项目的人员数量，就是一次对各个细分项目的全面展开，这也再次说明了，在EUV光刻机的研发上，中科院已经进入实质阶段，不是计划阶段，也不是方案阶段，更不是PPT阶段，是实实在在的“破局”阶段了。

所以，对于EUV光刻机，我们已经可以开始期待，对此大家怎么看呢？欢迎评论区留言、点赞和转发。