国产光刻机最新进展

近期以美国为首的西方国家对俄罗斯进行了严厉制裁，这让人不禁认识到在关键科技领域国家自主掌控的重要性，目前，我国科技发展受到美国制约最重要的一点就是芯片制造业，特别是手机芯片制造，华为公司因受美国对其实施芯片禁令的影响，手机发展遭到极大限制。生产芯片设备是光刻机，那么我国自主产权的光刻机进展如何呢？

目前国产光刻机制造实现了从“0”到“1”的突破，目前要解决的问题，是在“1”后面加几个“0”的问题，上海微电子研发的28nm光刻机预计今年年底完成交付，这意味着国产光刻机制造达到了中端水平。虽然距世界先进水平14nm以下仍有很大差距，但依照目前的研发速度，在未来5-10年完成超越指日可待。

ASML光刻机

国产光刻机制造看似是中国和阿斯麦公司竞争，实际上是中国与整个西方先进国家竞争，阿斯麦公司光刻机关键部件由美国、德国、日本、英国等西方最顶级公司提供，其追赶难度可想而之，一旦中国在芯片制造领域达到世界先进水平，那么无疑会改变世界格局，对全球发展产生深远影响。