日本光刻机卷土重来

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前文我们分析过日本如何痛失光刻机市场以致荷兰的阿斯麦公司一家独大占据高端光刻机市场的。上图也显示了阿斯麦一家的光刻机销售额占据了全球光刻机市场的91%，而曾经的老大尼康的份额只剩了6%，而且主要是DUV。

但是从王座上掉下来的尼康从未放弃翻身的努力。在日前举办的第四届中国国际进口博览会（进博会）上，尼康展出了其最先端的ArF液浸半导体光刻机NSR-S635E。据介绍，该光刻机专为5nm工艺制程量产而开发，将提供卓越的叠加精度和超高吞吐量，以支持最关键的半导体设备制造，产品计划于2023 年起售。

可以看到光源用的是193nm的ArF准分子激光。成本将是尼康与阿斯麦争夺5纳米制程的关键。

除此以外，据日本媒体报道，铠侠已掌握纳米压印微影（NIL）15nm的制程量产技术，目前正在进行15nm以下技术研发，预计2025年进一步达成。而根据DNP的说法，NIL量产技术电路微缩程度则可达5nm节点。

图片来自于日经中文网

没有光刻机，但是日本的Lasertec和东京电子却垄断了封测设备和显影设备，此外完成了对于光刻胶市场的近乎垄断。EUV光源系统发展至今，主流的EUV光源已确定为激光等离子体光源(LPP)，目前只有两家公司能够生产，一家是美国的Cymer（已被ASML收购），另外一家就是日本的Gigaphoton。Gigaphoton原为小松公司和Ushio公司各占50%股份的合资公司，2011年，小松从Ushio公司手中收购Gigaphoton余下的50%股份，如今Gigaphoton已成为小松的独资企业。空白掩膜版市场也被HOYA和AGC两家日本公司垄断，HOYA市占率超过50%。

日本经济产业省还将通过自有资金投资约 420 亿日元来支持研究和开发，日本半导体制造卷土重来之势野心勃勃，半导体制造的洗牌即将到来。