高端光刻胶出货全球前列！欣奕华邀您参加【第3届光掩模与光刻胶技术论坛】

（来源：半导体前沿）

-来自彤程，龙图光罩，SEMI，复旦大学，南开大学，暨南大学，苏州实验室，上海光源，欣奕华，中电科48所，安捷伦，湖北菲利华，新维度微纳，四川大学，优尼康等单位的专家将作精彩报告

4月16日，“牢记嘱托开新局日新江淮往前赶”主题采访团走进阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司。如今该公司已成为国内首家实现高端显示光刻胶大规模量产的企业，高端光刻胶产品出货实绩位居全球前列。

科技创新与产业创新深度融合

4月16日，记者在阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司一楼展厅看到，展厅四周摆满了有关光刻胶的宣传材料和展示品，墙上显示屏正在播放视频。在这里，公司有关人员可以通过多种方式向大家介绍有关光刻胶的情况。

什么是光刻胶？“当我们点亮一块屏幕，支撑画面诞生的，是一层肉眼看不见的彩色薄膜——光刻胶，它是显示面板制造中如同DNA般重要的‘灵魂材料’，没有它，屏幕就无法实现彩色显示。”阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司负责人说。

科技创新与产业创新深度融合，是欣奕华材实现突围的核心密码，该公司持续深耕高端光刻胶和OLED材料领域，与顶尖高校组建创新联合体，积极承担和参与3项工信部高质量发展专项、3项科技部重点研发计划，与显示面板、芯片领域龙头企业紧密协同，实现了技术突破与产业化落地的同频共振。

持续实现业绩增长

据介绍，光刻胶生产工艺复杂，技术壁垒高，我国光刻胶长期依赖进口。阜阳欣奕华坚持科技自立自强，经过无数次的实验与坚守，成功攻克关键原材料“卡脖子”难题，填补国内空白，助力国产高端显示光刻胶的自给率快速提升。

如今，该公司的高端光刻胶产品出货实绩位居全球前列。2025年，欣奕华凭借在显示与半导体领域技术深耕、创新突破和市场开拓，持续实现业绩增长，斩获由国际信息显示学会（SID）评选的国际金奖，持续保持行业领先地位。

未来，欣奕华材将继续服务国家战略，持续提升研发力、技术力、产品力、服务力，助力产业高质量发展；通过与行业伙伴在新型显示和集成电路等行业关键材料领域的深度合作、协同发展、价值共创，提升企业在产业链、供应链、创新链中的影响力，为行业发展和关键领域原材料国产化贡献力量。

第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。届时，欣奕华科技集团的专家将作《光刻胶在 HBM 技术中的作用与市场需求》的报告。

来源：大皖新闻记者 王振宇 摄影报道

—论坛信息—

名称：第3届光掩模与光刻胶技术论坛

时间：2026年4月24日

地点：上海

主办方：亚化咨询

—会议背景—

随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年，高NA EUV已进入高容量制造阶段，而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者，正加速研发。

进入2026年，中国对高端光掩模的需求持续强劲增长，但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元，年复合增长率达4.0%。预计到2030年，该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右，预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。

全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导，市场占有率超过70%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替代方面取得突破。

亚化咨询预计2026年市场规模有望达到100亿元。在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破，如南大光电实现ArF光刻胶量产。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年成立)等。国内光掩模与光刻胶产业发展正在提速，技术进步成为产业发展的重要推动力。

第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家，探讨下一代光刻技术发展方向，中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用，市场机遇与挑战，和产业发展前景。

—会议报告—

全球及国内半导体产业报告

——SEMI

光刻材料前沿进展与人工智能驱动创新

——苏州实验室

电子束光刻胶的性能和应用

——复旦大学

半导体材料的纯度管控与精细表征新趋势

——安捷伦科技有限公司

面向下一代高数值孔径 EUV 光刻的物理沉积光刻胶技术

——南开大学

数字光学微纳米加工技术

——暨南大学

高 x 值嵌段共聚物定向自组装纳米图案化技术

——四川大学

光刻胶关键成膜树脂产业化的挑战和难点

——彤程新材料集团

光刻胶在 HBM 技术中的作用与市场需求

——欣奕华科技集团

电子束曝光机研制及应用进展

——中国电子科技集团公司第 48 研究所

演讲标题待定

——优尼康

等离子光源在光刻胶和掩模版开发中的应用

——费勉科技（上海）股份有限公司

国内光掩膜版生产的瓶颈与供应链优化策略

——深圳市龙图光罩股份有限公司

光掩膜基板用石英玻璃的制造

——湖北菲利华石英玻璃股份有限公司

极紫外光刻胶光刻性能检测关键技术及应用

——上海光源

基于纳米压印全生态产业平台的微纳光学器件制造

——苏州新维度微纳科技有限公司