三星暂缓引入High-NA EUV技术：基于财务角度考虑的谨慎选择

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（来源：超能网）

此前ASML宣布，英特尔正在Intel 18A工艺上采用High-NA EUV光刻技术，生产部分代号“Panther Lake”的第三代酷睿Ultra系列处理器，成为了业界首个采用High-NA EUV光刻技术大规模生产逻辑芯片的企业。目前英特尔位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒的Intel 18A生产线已完成High-NA EUV双重认证，良品率达到了现有NXE EUV平台的水平。

据TrendForce报道，三星去年引入了首台High-NA EUV光刻机，成为了英特尔（2023年末）和台积电（2024年第三季度）之后，第三家安装High-NA EUV光刻机的半导体制造商。尽管三星也在推进High-NA EUV光刻机的使用，但是进度上明显要比英特尔慢，更多地只是停留在技术研发和试用阶段，现阶段并没有打算用于大规模生产。

有业内人士表示，三星谨慎的做法更多反映了在财务方面的考量，而非技术限制。过去数年里，三星投入了大量资源在先进制程技术的开发上，不过并没有取得令人满意的收益，2022年至今一直处于亏损状态，预计要到今年第四季度才会扭亏为盈。选择暂缓引入High-NA EUV技术，旨在减少额外资本投资，避免晶圆代工厂进一步扩大亏损。

如果High-NA EUV光刻机用于大规模生产，将大幅提高折旧及其他固定运营成本，现在三星看到了晶圆代工业务回暖，盈利近在眼前，不愿意增加资本支出，以免出现更长时间亏损。三星希望坚持更为保守的资本支出策略，直到主要客户的订单能够进一步支撑其盈利能力。