俄罗斯：我们拥有EUV光刻机核心技术，会比中国更快造出光刻机！

芯片这东西，没它手机电脑就干不了事儿，全球光刻机都被荷兰ASML攥在手里，俄罗斯突然说要自己搞EUV光刻机，还讲比中国快了一步，这话听着不太对劲，但仔细想想，事情没那么简单。

苏联搞科研那会儿真拼，70年代就做出EUV光源，比别人早了好几年，87年列别捷夫研究所的成果，后来被荷兰ASML拿去学，俄罗斯科学院搞出的钼硅镜片，反射率能到70%，日本科学家靠着这技术，80年代拍出了全球第一张EUV影像。

俄罗斯人现在不跟国际上走那套13.5纳米的路子，改用11.2纳米，说这东西分辨率更高，成本更省，还能用上新的反射镜，2026年打算出40纳米的芯片，2037年直接干到10纳米以下，听着像瞎扯，可他们2024年真做出了350纳米的光刻机，花了五百万卢布，专门给汽车芯片供货。

中国这边也没闲着，上海微电子刚说28纳米浸没式光刻机开始量产了，EUV研发虽然起步晚，但另找路子，用激光放电做光源，没走ASML的老路，2025年试产的EUV部件，反射镜国产比例已经到九成五，最关键的是，中国盯的是13.5纳米国际标准，芯片能卖到全世界，不像俄罗斯那些非标货，得自己搭一套系统。

俄罗斯靠老办法赌未来，中国慢慢补短板，俄罗斯的办法省钱但难对接，中国的路子稳但得一点一点啃，两边最近开始搭伙，俄罗斯缺量产的本事，中国缺高端的技术，说不定能凑一块儿干成点事。

2025年7月的数据说，中国自己做的光刻机已经占了国内市场的三成，俄罗斯那边也在跟中国企业谈合作，ASML一家独大的局面，看来撑不了多久了，这盘棋谁最后能赢，谁也说不准，但眼下这暗地里的较量，到底谁手里的牌更实，真不好猜。