9月2日,高盛发布了一份让人心情复杂的研究报告。报告里那句“中国光刻机落后ASML约20年”,像一记重锤砸在每个关心中国芯片产业的人心上。
65纳米,这是2024年中国最先进光刻机的制程水平。而在太平洋另一端,ASML的工程师们正在调试2纳米生产线。两个数字之间,横亘着整整20年的技术鸿沟。
说白了,光刻机就是在指甲盖大小的硅片上“画”电路的机器。但这个“画”,精度要达到头发丝的几千分之一。
ASML为了把光刻精度从65纳米推进到3纳米以下,整整花了20年,烧掉了400亿美元。这个数字什么概念?相当于建造4个港珠澳大桥,或者中国一年科研经费的十分之一。
更要命的是,这400亿美元买来的不仅是技术,还有时间。当你还在攻克65纳米的时候,人家已经在玩2纳米了。这就像你刚学会造自行车,别人已经在造火箭。
中芯国际的7纳米芯片曾经让西方媒体惊呼“不可能”。但高盛的报告戳破了这层窗户纸——这些芯片很可能还是用ASML的老式DUV光刻机生产的。
这就像用老式相机拍出了高清照片,技巧是有的,但终究不是长久之计。没有EUV光刻机,7纳米已经是极限。想要5纳米、3纳米?门都没有。
一位不愿透露姓名的业内人士说:“我们就像在用算盘跟人家的超级计算机比赛,技巧再高明也改变不了工具的代差。”
光刻机不是一个国家能造出来的,它需要全球顶尖技术的集成。镜头来自德国蔡司,光源系统依赖美国Cymer,精密工件台由荷兰自己生产,还有日本的特殊材料……
这就是高盛报告里提到的“全球供应链依赖”。美国一纸禁令,整条产业链都对中国关上了大门。你想自己造?对不起,连螺丝钉的材料配方都是机密。
台积电已经在量产3纳米芯片,2纳米生产线明年就要开工。而我们还在65纳米徘徊。
“这不是努力不努力的问题,是整个产业生态的问题。”一位光刻机研发人员说,“我们缺的不只是一台机器,而是背后几十年的技术积累和上千家配套企业。”
按照ASML的发展速度推算,即便中国从现在开始全力追赶,没有20年很难达到今天ASML的水平。而20年后,ASML又会在哪里?
高盛的报告里有个细节特别扎心:ASML的400亿美元投入不是一次性的,而是20年的持续投入。平均每年20亿美元,雷打不动。
中国不是没钱,但这种需要持续20年、看不到短期回报的投入,有几家企业愿意做?有几个投资人愿意等?
更关键的是,即便你有400亿美元,也未必能复制ASML的成功。因为他们的400亿买的是时间优势和先发地位,而后来者的400亿,可能连入场券都买不到。
65纳米到3纳米,不只是数字的差距,更是一个产业链话语权的距离。当全世界都在用3纳米造手机芯片的时候,你还在用65纳米,这意味着什么?
意味着你的手机会更费电、发热更严重、运算更慢。意味着在人工智能、自动驾驶这些需要顶尖芯片的领域,你只能看着别人领跑。
光刻机的困境,折射出的是中国高端制造业的普遍困境——不是不努力,而是起步太晚,又遭遇封锁。这条路注定漫长而艰难,但除了走下去,我们别无选择。
毕竟,没有人会在这场技术竞赛中等你。
更新时间:2025-09-04
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