话说回来，这几年半导体行业闹得沸沸扬扬，尤其是中美之间的芯片争端，搞得全球供应链都跟着紧张。

荷兰一家咨询公司叫Insinger Gilissen的分析师Jos Versteeg，前阵子在接受中国媒体采访时放话说，中国要想在DUV光刻机上追上ASML，至少得花五年工夫。

这话一出，立马在圈子里炸锅了，因为ASML是光刻机领域的霸主，中国芯片产业正卡在脖子上，这五年时间听起来不长不短，但实际操作起来，难度可不是闹着玩的。

Jos Versteeg是光刻领域的资深玩家，他的话不是随便编的，基于ASML的技术专利堆积和全球供应链的现实情况。2024年，美国那边加强出口管制，先是EUV光刻机禁了，然后1月份又把部分浸没式DUV拉进黑名单，这直接让中国企业采购高端设备变得棘手。

ASML的财报显示，那年对中国大陆的营收占比高达49%，日本相关企业对华出口也占了50%以上，这数据明摆着，中国市场对这些外资巨头来说是块大肥肉，但管制一来，大家都得掂量掂量。

Jos Versteeg的分析点到要害，ASML手里攥着海量专利，光DUV这块就够中国企业喝一壶的。就算资金和人才砸进去，短时间内也难翻盘。他提到ASML对中国光刻动向特别敏感，焦虑得不行，因为一旦中国自主化成功，市场份额就得重新洗牌。

想想看，ASML和德国蔡司合作搞光学系统，蔡司那边专利超过1500项，从镜组到整套光学模块，全是他们把控。蔡司起步于显微镜制造，一步步深耕光学领域，现在成了行业老大。中国这边有舜宇光学这样的企业，也做显微镜和镜头，但半导体级的光学精度要求高得多，2024年时差距还挺明显。

Jos Versteeg的五年预估不是拍脑袋的，根据行业观察，DUV涉及光源、镜头对准、软件算法等多重技术壁垒，中国从干式DUV起步，浸没式还得一步步来。2024年下半年，中国工信部公布了国产干式光刻机，但浸没式DUV的官宣拖到年底，研发过程磕磕绊绊，主要是光学和精密机械的精度追不上。

ASML前老板彼得·温宁克在2024年7月上荷兰电台BNR时，直言美国对华芯片限制是意识形态作祟，不是事实依据。他拿80年代美日芯片战举例，那时候日本企业像索尼，靠存储芯片低价产品如随身听和收音机抢市场，美国厂商吃不消。

1986年，美日签半导体协定，日本那边技术自信爆棚，官员石原慎太郎和索尼创始人盛田昭夫1989年出书《日本可以说不》，书里吹日本芯片牛逼，美国得靠日本材料。这书惹恼美国，搞反倾销调查和关税，日本扛不住压力，调整出口策略。

彼得·温宁克说，美国对中国的招数不一样，没市场倾销的实锤，就是想在发展阶段掐死中国芯片，防赶超。2024年美国扩展管制清单，加了计算和软件限制，把更多中国工厂列进去，这让ASML对华业务凉了半截，虽说部分DUV还能卖，但2025年营收占比预计滑到20%。

中国企业没闲着，2025年初就开始加速本土DUV测试。上海微电子设备公司1月份交出首批28nm级光刻机，内部验证良率和产量。舜宇奥来作为舜宇光学的子公司，7月份签协议，跟多家半导体企业和国资联手，专注集成电路光学协作，技术、资金、场景三管齐下，形成从芯片设计到光学制造的闭环。

临港项目设备迁入，量产脚步加快。SMIC9月份试跑Yuliangsheng的国产DUV系统，针对28nm工艺调参数，光源稳定和镜头对准反复优化。华为那边也掺和进来，早年试EUV组件，但DUV是当下重点。这些动作听起来有板有眼，但实际推进中，专利绕行和供应链整合耗时费力。

ASML2025年一季度在北京开维修中心，帮维护老设备，新货出口受限。中国政府加码研发资金，SiCarrier和Yuliangsheng这些公司拿到支持，开发浸没式DUV瞄准28nm以下。

话说ASML的财报挺亮眼，2025年销售增长15%，全年320亿欧元左右，中国占比降到三分之一，但整体不亏。公司跟台积电、三星合作推高NA EUV，全球领先地位稳。中国芯片产业自给率在抬升，本土设备帮中芯国际维持生产，但进口依赖短期内甩不掉。

专家们分析，2025年中国光学专利申请猛增，但从纸面到产品转化得几年。荷兰政府夹在美国压力和企业利益间，允许部分服务继续。

整个链条暴露全球供应链脆性，中芯国际10月份报告，本土DUV测试初步过关，大规模用得上2026年后。Jos Versteeg的预言到2025年还站得住脚，中国虽有突破，但商用水平跟ASML比，差距没那么快抹平。彼得·温宁克退休后还在媒体上发声，强调决策得看数据，不是意识形态。

再深挖点，DUV光刻机核心在波长和分辨率，ASML的NXT:2000i系列支持7nm工艺，中国本土从90nm起步，逐步到28nm，花了几年。2024年采购高峰，中国企业囤ASML设备，应付管制，但库存总有用完那天。

观察者网研究员指出，2024年前ASML对华出口金额走高，显示需求强劲，但管制后下滑明显。日本企业情况类似，对华营收过半，现在也得调整。蔡司官网新闻说，他们和ASML联手打造EUV和浸没式DUV光学，专利壁垒高筑。

中国舜宇光学在消费镜头强，但在半导体级还需积累。证券时报报道，舜宇奥来合作协议签后，项目推进快，2025年下半年临港基地开始小批量产。

行业内看法分歧，有人觉得五年太保守，中国人才储备和资金雄厚，能加速；但Jos Versteeg基于专利和技术门槛，坚持五年是底线。

2025年全球半导体市场回暖，ASML订单满负荷，中国本土供应商如上海微电子出货增加，但精度和稳定性追赶需时。美方管制持续，2025年9月又加码，限制旧款DUV维修部件出口，荷兰企业叫苦。

中国芯片企业转向多重曝光技术，用DUV模拟EUV效果，但效率低，成本高。整体看，这场追赶赛跑，中国在跑步，ASML在前头领跑，五年时间点卡得准。

结语：

总的，Jos Versteeg的话提醒大家，技术不是一蹴而就，得一步步来。中国企业从干式到浸没式，过程吃力，但进展实打实。