日媒惊叹：中国或将成为荷兰和日本后第三个独立制造光刻机的国家

日本媒体放出话来，说中国眼瞅着就要挤进光刻机独立制造的俱乐部，排在荷兰和日本后面当老三。源头是《日经亚洲》这样的刊物，他们盯着中国在核心部件上的小步快跑，得出了这个结论。

想想几年前，外界还觉得中国芯片被卡得死死的，光刻机像个遥远的梦。现在呢，外部的封锁反倒成了催化剂，逼着国内团队从代工起步，慢慢摸索出自己的门道。那些工程师们日夜泡在实验室里，拆解二手设备，逆向琢磨技术细节，这种韧劲让人佩服。

报道里提到，中国光刻机发展的路子不是一条道跑到黑，而是多管齐下。上海微电子装备公司领头，在浸没式设备上咬牙钻研，从90纳米级起步，逐步往28纳米推。初创企业则瞄准化合物半导体专用机型，避开高端硅基的正面硬刚。

举个例子，2025年下半年，上海芯上微装科技交出了一台350纳米步进机，精度够用在5G基站和新能源车电控上。国产化率高到83%，从光源到镜片基本自家搞定，这不光是技术事，还关乎供应链的安心感。

日媒的观察点出，中国人没一头扎进EUV的深坑，而是先稳住成熟制程的市场份额。全球芯片需求里，七成以上是这类非尖端货，中国企业通过差异化竞争，抢占功率半导体和MEMS的份额。

哈工大和相关集团的产线试运行，针对极紫外光源虽还有距离，但已能支撑基本测试。工程师们用激光辅助等离子技术，输出功率逐步爬升，这种从底层积累的耐心，体现了中国工业的底蕴，而不是急功近利。

再说材料端，光刻胶这块儿过去九成靠进口，日本企业把持大头。但从2020年的15%国产率，到现在32%，南大光电和彤程新材等公司在高端领域小有斩获。日媒承认，这种进步让外部的专利壁垒开始松动。

中国团队不光硬件追，还在软件上花心思，自研驱动和工艺管理，确保设备断供时还能转。想想2022年JSR那位美国老板埃里克约翰逊放话，说中国人就算有论文也造不出EUV，现在事实让他闭嘴了。

中国光刻机的故事，还得从2020年说起，那时为ASML组装的设备占全球两成，国内工人边干边学，积累了不少实战经验。地缘因素一紧，反倒推着大家转向自主。

璞璘科技的纳米压印设备，线宽小于10纳米，已交付客户用于存储和封装测试。这条非主流路径，避开了ASML的专利雷区，却在先进封装上发力。通过2.5D堆叠，中国在异构集成上走在前头，补齐制程极限的短板。

日媒报道时，还带了点现实的担忧，日本尼康和佳能在DUV领域有位置，但整体依赖美国技术。中国一国之力包揽全链的潜力，让他们警醒。

浙江大学团队的电子束机“羲之”，精度0.6纳米，已进入应用阶段。这些突破像散落的珠子，串起来就成了中国半导体突围的链条。工程师们面对的不是光鲜的舞台，而是无数次失败后的调试，这种人情味儿，让技术故事多了一丝温暖。

全球格局下，光刻机市场被ASML垄断，EUV独家供应，但中国路径更务实。先从化合物材料切入，满足新能源汽车和Micro LED的需求。上海微电子在封装机上拿下全球四成份额，这不是数据堆砌，而是实打实的商业护城河。

日媒认为，中国从组装转向创新，已跨过从无到有的坎，正往优化阶段迈。那些研发人员，常常加班到深夜，只为多测一个参数，这种奉献精神，值得我们多想想。

中国光刻机之路，充满了荆棘，但也藏着希望。日媒惊叹的背后，是对全球博弈的反思。荷兰ASML承认脱钩难，合作仍是主流，但中国自给能力的提升，或将重写规则。那些一线工作者，没什么光环，却在悄然改变产业版图。

日媒的观点提醒我们，光刻机不是孤立的设备，而是整个生态的构建。中国企业通过大数据优化良率，传感器网实时监控，缩短调试周期。这种软硬结合，让设备更有韧性。展望下来，中国或许真能成为那个独立玩家，不再看别人脸色。