观察者网12月12号发消息说，阿斯麦公司的老板富凯在聊到对中国出口限制的时候，说了一句挺有意思的话。

要是真把中国逼到没路走，中国就会彻底甩开西方技术，自己搞一套，到时候没准还得反过来向我们出口。

现在西方的想法很简单，就是不卖高端光刻机给中国，让中国只能用老旧的设备，做不出最先进的芯片，这样就能一直压着中国。

但富凯觉得这种办法已经越来越没用了，他嘴上还说中国现在差得远，其实心里很着急，因为他明白，一旦中国买不到，肯定会自己研究，等中国技术追上来了，西方就没什么优势了。

光刻机说白了也是人造出来的，中国不可能永远落后，而以前大家都觉得光刻机是中国芯片行业最大的难题，说它是“半导体行业皇冠上的明珠”。

至于荷兰的ASML公司，更是全世界公认最厉害的光刻机厂商，最先进的EUV光刻机只有他们能造，市场上百分之百都是他们的货，想造7纳米以下的芯片，谁都离不开他们的EUV光刻机。

从2019年开始，美国就一直给荷兰施加压力，不让ASML把最先进的EUV光刻机卖给中国企业。

到了2025年，连技术落后一些的DUV光刻机也开始卡得越来越严，荷兰政府还撤销了一些出口许可证，像中芯国际这样的公司买设备都变得很困难。

但根据《日经亚洲》等媒体的说法，中国现在很可能会成为继荷兰、日本之后，全球第三个能自己造全套光刻机的国家。

这个说法不是瞎吹，是因为中国最近在光刻机的一些关键技术上，确实有了实打实的突破。

中国这边没打算照搬ASML的老路，因为那太难了，ASML做的传统EUV光刻机，核心就是那个小型化的光源，技术专利一大堆，集成起来特别复杂，ASML自己都搞了几十年才做出来，别人根本学不来。

中国换了个思路，搞的是SSMB-EUV方案，简单来说，就是建一个大工厂，把光源集中生产，然后分给很多台光刻机一起用。

清华大学2017年就开始做这个项目，2021年做了初步实验，证明这个方案能行，2022年又有了关键突破，光源功率超过1000瓦，光学腔稳定运行超过4小时。

这种设备不像ASML那种小巧的机器，更像是工厂里的中央供水系统，用一个大型环形加速器持续产生EUV光，再通过管道送到各个光刻机。

这种模式特别适合中国，因为中国地方大，工厂多，制造能力强，还跟德国的科研团队合作，解决了相位锁定的问题，打下了技术基础。

2025年7月，中国在极紫外光刻胶材料聚碲酮上又有新进展，把材料这块短板也补上了，这个项目的最大优势，就是能做大、能集中。

虽然刚开始投的钱多，建设时间也长，对怎么规划和管理要求挺高，但大家都充满希望，都觉得这条路是“换赛道”。

我们不是去跟ASML比谁的设备更牛，而是直接跳出来，搞成像基础设施一样的大型工业工程。

“光刻工厂”其实不只是换了种技术，更像是把芯片行业的重点，从“精密小设备”变成了中国最拿手的“重工业”。

如果以后光源能像电一样随时供应，一家工厂能同时养活几十台光刻工作站，那就算没有EUV，我们也能自成一套高端光刻体系。

这条路的好处，就是不用死磕那些被西方死死卡着的高精尖领域，而是把问题拉到中国最擅长的大工程上来解决。

说到底，“宏观工程”这几个字，就是中国的强项，也是最稳的底气，当然光刻工厂这种路子，见效需要时间，属于中长期的布局。

眼下日子还得过，所以产业链另一边也在加快补短板，像SMEE的28纳米光刻机已经快要试生产了，2025年12月，上海芯上微装科技把AST6200型350纳米步进光刻机顺利交付了。

虽然这台光刻机不是现在最顶尖的，但它的技术参数，刚好能满足目前第三代半导体市场的需要，说明中国的光刻机企业现在更讲究实用和灵活，开始用自己的办法参与全球市场竞争。

法国《世界报》在10月份的文章里也说了，光刻技术卡住了中国芯片产业的脖子，是最难突破的一环，中国企业现在正加倍努力，想自己搞定，不再被别人卡脖子。

除了技术进步，中国企业还定了个大目标，到2030年要为全球提供三分之一的芯片产能，现在全世界对中国芯片的依赖也越来越高了。

这其实就是中国企业用自己的技术，硬刚西方的封锁和制裁，中国制造的传统芯片，已经开始在世界上越来越有影响力，越来越重要。

而中国芯片产业最大的优势就是国内需求大，资源和基础工业很齐全，这些条件让国产光刻机有底气去研发。

就算国产设备现在还不算最先进，但有国内产业链的支持，肯定会越做越好。

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