前沿导读

据上海微电子公司的负责人贺荣明先生，在先进事迹的报告会中表示：

当我提出我们中国人要做自己光刻机的时候，那种外国专家的眼神除了敬仰，多多少少带有对我们科技人员的不屑和蔑视。甚至有一名欧洲的高级专家，非常严肃地抛给我一句话，中国人要做光刻机，就是给你们全套图纸，你们也做不出来。

世界工业看欧洲，欧洲工业看德国。德国孕育了梅赛德斯奔驰、巴伐利亚发动机制造厂以及奥迪这三大顶级的豪华汽车品牌，并且还同时拥有被誉为“上帝左手”和“上帝之眼”的西门子和蔡司。

连工业实力如此强大的德国都没有制造出光刻机，中国企业到底哪来的勇气去研发光刻机？

设备发展

贺荣明先生在谈及我国光刻机业务时，用“不堪回首”四个字来概括曾经国产光刻机的技术研发时期。

2002年，上海微电子公司刚刚成立的时候，我们没有充足的人才团队，没有完善的技术积累，也没有配套的产业供应链。

贺荣明先生带领着自家的技术团队去找欧美国家商谈合作，但是欧美企业对于中国人造光刻机这件事持怀疑态度，并且其认为光刻机设备是高精度设备，产业技术一直被美国、荷兰、日本这三个国家把控，中国想要在这三个国家的竞争当中成为第四股力量，无异于是说笑话。

贺荣明先生在大会中表示，在受到欧美企业的冷眼之后，自己和团队的自尊心受到了极大损伤，同时整个研发团队也非常不服气。在回国之后的很长一段时间内，技术团队都是带着一种赌气的心思在发展产业技术，这也为后续中国光刻机的成功点燃了火种。

2007年，上海微电子公司成功将光刻机的第一束光源曝光了出来。

2009年，首台国产光刻机的样机制造完成，实现了国产设备的制造大跃迁。

上海微电子公司开发的第一款国产曝光机是SSB200系列，其主要应用于AMOLED和LCD显示屏的制造。随后又开发出了SSB300系列的步进式光刻机设备，应用于2-6英寸基底的光刻领域，可以满足Mini LED、MEMS传感器等产品的制造。

真正让国产光刻机打出名气的产品，是第三代的SSB500系列光刻机。

该系列产品应用于先进的芯片封装领域，可满足于Flip Chip、Fan-In、Fan-Out WLP/PLP、2.5D、3D等多种封装形式。

贺荣明先生也在大会上面，重点强调了在先进封装领域的国产光刻机。

贺先生表示：

当我们在先进封装领域，设计了第一台国产光刻机，战胜竞争对手，并且被IC行业的台湾客户所接受的时候，台湾客户满怀真诚的对我说：‘真没想到我们中国人也能做出光刻机，我作为中国人感到很自豪！’

坚持自主发展

根据中国青年网转载《解放日报》的专访内容表示：

贺荣明先生在接受记者采访时，直言不讳的说到：“历史赋予了我们这批人研发中国光刻机的任务，我们也就不该再想别的了。有段时间，我看着工程师辞职去金融企业，心里面真是着急，我们国家怎么能离开高端制造业？”

如今的上海微电子公司，员工多达上千人，超40%的员工具有硕士及以上学历，其平均年龄只有34岁。其中既有一批国际视野的工程师团队，也有一批技能娴熟的工匠团队。

贺荣明先生对此表示称，我们有责任让年轻一代超越我们，接替我们继续为国家的高端制造业拼搏前进。

参考资料：

十几年就做一件事:"智"造中国自己的光刻机_新闻频道_中国青年网

根据北京电子学会发布的专栏报告指出：

光刻机算得上是人类在工业设备领域的集大成者，其制造难度高、所需供应链体系庞大，只有少数几家公司能够掌握制造技术。

DUV浸润式光刻机的售价大约是7000万美元，EUV的售价是DUV的两倍，上升到了1.5亿美元。而最新的High-NA EUV光刻机，其售价又是上一代EUV光刻机的两倍，超过了3.4亿美元。

参考资料：

「链接」

国际层面不断推出新产品来延续摩尔定律，而中国的浸润式DUV和EUV光刻机还未正式公布，现阶段的光刻机依然还是制约中国芯片发展的核心难题。

ASML能成为光刻机产业的最大赢家，其核心原因有两点。

一是ASML处于中立位置，服务于全球客户，可以获得包括美国在内的全球科技力量。二是ASML吸纳了全球各行各业的顶尖人才，ASML的研发人员数量占总员工数的40%左右，并且许多技术都会外包给其他合作商，既深化了产业合作，又提升了研发效率。

中国企业在被美国封锁产业链的情况下，依然开发出来了最新一代的干式光刻机，将设备分辨率提升到了65nm，推动中国光刻机产业再次实现技术跃迁。其开发自主光刻机的核心动力，就是来自于海外国家的科技压制。想要不被欺负打压，唯一的途径就是掌握自主可控的科技实力。