ASML要慌:EUV光刻机新光源出现,成本降50%,功耗降80%

半导体这行当,现在谁都离不开光刻机,尤其是做7纳米以下芯片的那些先进工艺,得靠极紫外光刻设备。荷兰的ASML公司在这块儿基本上是老大,全世界就它一家能批量供货这种机器。台积电、英特尔、三星这些大厂,没办法,只能从ASML那儿买。

早几年,ASML推出来的标准EUV光刻机,一台卖1.5亿欧元左右,大家咬牙也就认了。后来又升级到High NA型号,价格直奔3.5亿欧元,英特尔他们还得继续掏腰包。ASML靠这个,赚得是满盆满钵的,年营收蹭蹭往上窜。

ASML怎么稳住这个位置呢?它不光是卖机器,还把整个供应链给绑得死死的。光学镜头靠德国的蔡司,激光器有德国通快的份儿,光源技术则是收购了美国的Cymer。投资的投,收购的收,反正就是不让别人轻易插一脚。要是别人想走同样的路子造EUV光刻机,基本没戏,得换条道儿才行。

这不,新道儿出来了。自由电子激光器这种技术,正在挑战ASML的传统光源。旧的方案叫激光产生等离子体,用二氧化碳激光打锡滴,产生等离子体放出EUV光。这个过程费劲,效率低,才3%到5%,一台机器得耗1兆瓦电才能出几百瓦的有效光。结果呢,电费高,维护麻烦,晶圆厂的运营成本直线上升。

新方案用自由电子激光器,简称FEL,通过粒子加速器把电子加速到接近光速,再让它们穿过波荡器,产生高亮度的EUV光。亮度高出几百万倍,波长精确控制在13.5纳米,还能升级到6.7纳米做更精细的芯片。关键是效率高,墙插效率能到旧方案的10倍以上,意思是同样的电,输出功率多得多。xLight这家公司说,他们的系统能支持20台光刻机同时用,一套寿命30年,晶圆处理成本能降50%,整体功耗砍掉80%。

xLight是2021年在加州成立的初创企业,创始人Nicholas Kelez当CEO兼CTO。起步时就瞄准了EUV光源的痛点,和康奈尔大学、洛斯阿拉莫斯国家实验室、费米国家加速器实验室这些地方合作。2022年,他们搞定初步验证,证明FEL能在实验室里出EUV光。

2023年,团队扩招,优化波荡器和电子束稳定。2024年,中型测试上线,用康奈尔的加速器数据调参数。2025年7月,他们拿下4000万美元B轮融资,Playground Global带头投,Boardman Bay Capital Management和Morpheus Ventures跟上。英特尔前老板Pat Gelsinger当执行主席,给技术把关。这笔钱主要用来建原型,目标是独立光源系统,放厂房外头50到1500米,通过光子管道传光进去。

日本那边也没闲着。高能加速器研究机构从2011年就开始弄紧凑型能量回收线性加速器,2013年搭好框架。2019到2020年,调整设备转向EUV测试,加了波荡器。2020年6月,看到自由电子激光光,脉冲模式下跑起来。2023年1月,他们在会上报告,说FEL光源能解决旧方案的随机效应问题。全年升级加速器,目标800兆电子伏特,得换新超导腔和电子枪。2024年,加入蓝X联盟,70多个组织一起定标准,讨论辐射防护和光束传输。2025年2月,开第九届EUV FEL研讨会,九州大学分享曝光中心进展。从红外到EUV的转变,自放大自发辐射效应数据挺亮眼。

这些事儿加一块儿看,半导体供应链要变天了。ASML的EUV机器现在是电老虎,一台一年电费就好几百万美元。新光源要是成熟,晶圆厂能省大笔钱,还能多处理晶圆,提高产量。xLight计划2028年出完整原型,能打印晶圆。日本机构2026年稳住EUV输出。当然,挑战不少,辐射防护得严,光束传远了损失大,得解决。

全球格局上,美国想靠xLight减对中国和欧洲依赖,融资里就有国家安全考量。日本高能所的ERL技术,也在推高效率,消费电力能砍九成。专家说,FEL是下一个里程碑,能让晶体管密度再上台阶。ASML得警惕了,它垄断这么多年,供应链绑得紧,但新技术一出,客户肯定会看性价比。台积电他们要是转用FEL光源,ASML的升级节奏就得跟上,不然市场份额丢了。

想想看,半导体这行业,本来就是技术驱动的。ASML当初赌EUV,也冒了险,花17年投60亿欧元。现在FEL冒头,同样是高风险高回报。xLight的系统,放厂外头当中央光源,供多台机器用,像共享电源似的,经济性强。旧LPP光源,每台机器自带,维护单独来,新方案集中管理,省事儿。

再深挖,FEL不光省电,还环保点。锡滴污染少,避免了旧方案的废料问题。波长可调,未来BEUV(更短波长)直接升级,不用大换血。科学家们说,FEL亮度高,适合精细图案化,随机效应小,良率上得去。

发展时间线上,美国和日本平行推进。美国侧重商业化,xLight跟晶圆厂谈兼容,旧机器能无缝换光源。日本重基础,ERL回收能量,效率拔尖。联盟合作,标准定了,推广快。预计三到五年,商用机出来。ASML慌不慌?肯定得动起来,研发新版,说不定收购相关技术。

半导体格局变化大,依赖ASML的日子可能到头。更多选择出来,价格战打起,创新加速。最终受益的是下游,芯片便宜,AI、手机啥的都跟上。xLight融资超额完成,说明投资人看好。Pat Gelsinger的加入,更添信心,他懂行,知道英特尔痛点。

日本的进展,2023年报告高功率EUV FEL,未来光刻用。和高能所合作,35年实用机目标。消费电力9割减,听着夸张,但数据支撑。加速器长200米,占地大,但输出管够,10台分量。

总的,EUV光源革命在即。成本功耗双降,ASML得重新定位。行业洗牌,全球芯片供应更稳。谁先掌握FEL,谁就占先机。xLight和日本机构,成了搅局者。ASML的垄断,面临真考验。

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更新时间:2025-11-06

标签:科技   光刻   功耗   光源   成本   三星   日本   加速器   英特尔   机器   美国   自由电子   激光器

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