武钢申请利用激光工艺制备无硅酸镁底层高磁感取向硅钢及方法专利，成品磁性能优良

金融界2025年6月28日消息，国家知识产权局信息显示，武汉钢铁有限公司申请一项名为“一种利用激光工艺制备的无硅酸镁底层高磁感取向硅钢及方法”的专利，公开号CN120210693A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，一种利用激光工艺制备的无硅酸镁底层高磁感取向硅钢，其组分及wt％为：C：0.015～0.095％，Si：2.50～4.50％，Als：0.010～0.040％，N：0.0050～0.0100％，Mn：0.010～1.00％，S：0.0030～0.0300％，P、Cu、Sn、Sb、Cr及As中的任意至少二种且满足(P+Cu+Sn+Sb+Cr+As)≤1.80％，制备方法：经冶炼、真空处理、并浇铸成坯；对铸坯加热；热轧；卷取；常化；进行一次冷轧；进行脱碳退火；进行渗氮处理；涂布以MgO为主要成分的常规高温退火隔离剂；高温退火；开卷并在保护气氛下激光处理；拉伸平整退火处理。

天眼查资料显示，武汉钢铁有限公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事黑色金属冶炼和压延加工业为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉钢铁有限公司共对外投资了26家企业，参与招投标项目5000次，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可540个。

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