前沿导读

清华大学微电子所的魏少军教授，在中国经济大讲堂节目中痛批了当下许多人对中国芯片过于离谱的吹捧说法。

某某某芯片突飞猛进，美国人都害怕；我们的技术产品已经站到了世界之巅；某科学家从美国回来了，美国人慌了。

芯片的发展，有客观规律。既没有大家想象的那么好，也没有像大家想象的那么坏。我们现在的技术产品还不能满足所有需求，但是只要坚持走下去，我们的发展就一定可以走到希望的水平上去。

吹捧技术

对于中国的自主芯片产业来说，光刻机和先进芯片这两个领域经常被拿出来谈论的话题，也是被许多人误解最严重的领域。

目前已经公开的国产光刻机信息，除上海微电子官网的一些老旧设备外，最新设备也就是2024年国家工信部发布的最新干式光刻机，193nm波长、分辨率65nm、套刻精度8nm，使用多次曝光技术可以覆盖到28nm及以上芯片的制造。

至于更先进的国产浸润式光刻机，唯一能查询到的信息就是ASML首席技术官马丁·范登布林克以及ASML首席战略官弗里茨·范·霍特在2018年和2019年访华，发现上海微电子公司正在攻克国产的浸润式技术。

参考资料：

国际半导体观察者、荷兰科技记者马克·海金克所著书籍《Focus: The ASML Way》第205页内容

对于中国的光刻机产业来说，浸润式技术的难度很大，而且涉及到技术专利和美国的产业链封锁，短时间内无法拿出可以投入生产线运行的设备。

至于更加先进的EUV光刻机，中国各企业单位正在进行模块化的技术攻关。

将EUV光刻机的光源、发射器、工作台等各个零部件分别交给不同类型的企业进行开发，最后组装成一个完整的设备。并且中国的研究院和技术所，还在尝试多种技术路线，找寻突破瓶颈的机会。

目前为止，哈尔滨工业大学、上海光机所、长春光机所，这三家技术机构正在研发EUV设备的光源技术。其采用的技术方式包括了DPP技术、LDP技术以及ASML主导的LPP技术。

参考资料：

中国科学院-相关成果

从模块化的技术开发，到最终投放市场进行商用，中间还要经过组装测试、系统调试、后续维护周期等多个项目节点。ASML的EUV设备从签订合同开始，需要经过三年以上的时间才可以投入生产线。用两年左右的时间运送组装设备，一年的时间进行技术调试。

这还是建立在技术成熟的情况下，如果设备的技术不成熟，那么就需要大量的时间去解决技术问题，提升制造芯片的良品率。

技术进展

目前国产的7nm逻辑芯片依然采用的是ASML的光刻机设备，在2023年的时候，ASML的中国区业务异常强劲，ASML向中国企业交付了大量曾经订购的浸润式DUV光刻机，这些光刻机在当时未被美国封锁，并且订购产品的企业均为成熟芯片制造商。

关于ASML向中国企业大量交付光刻机这件事，ASML首席财务官罗杰·达森在2023年的财报大会上面证实了这个内容的真实性。

参考资料：

ASML Q4 2023 - Financial results | ASML

并且达森表示，美国已经向ASML下达了2024年的限制措施，之前交付给中国企业的先进DUV光刻机以后无法继续向中国销售，并且对于那些持有先进工厂的敏感中国企业，不但先进的NXT：2000i光刻机获得不了，甚至连水平更低的NXT：1980i和NXT：1970i也无法获得。

ASML官方财报

对于中国企业持有并囤积大量ASML设备这件事，荷兰科技记者马克·海金克对此解释道：

美国切断了ASML与中国企业在EUV上面的合作，对双方造成了严重影响，并且美国在这个阶段还利用贸易份额获利。尽管中国企业不被允许获得EUV光刻机，但是他们依然可以使用ASML的浸润式DUV光刻机制造先进芯片。

中国企业从ASML购买了大量设备材料，通过这种方式来尽可能保证国内芯片的产能数量，以便为中国企业开发自主的制造设备赢得时间。

DUV光刻机可以一次曝光制造成熟芯片，也可以通过自对准多重图案化技术制造先进芯片，只不过后者的技术难度较高，很少有企业愿意尝试，美国的英特尔曾经用这种技术失败了。

中国企业打的就是美国的信息差，让国内的成熟芯片企业采购ASML的DUV光刻机，这合法合规，并且没有触碰美国的制裁红线，可以顺利的获得产品。但是在获得设备之后，中国企业选择直接攻克自对准多重图案化的制造技术，并且成功实现了先进芯片的量产商用。

在国产高端设备没有完全的把握之前，使用ASML的设备制造产品，是最优的解决方案。