4月3日，日本宣布对中国实施EUV光刻胶出口管制，这禁令直接扼住了中国半导体产业的喉咙。

要知道，在全球半导体产业里，光刻胶虽不起眼，却是核心环节的关键材料。

如今，日本在光刻胶市场，占有率是非常高的，光低端光刻胶就占70%，高端光刻胶甚至超过了90%。

因此，日本人才会打这个算盘，他们认为自己的这道壁垒，是坚不可摧的！

日本光刻胶管制

东京时间当天上午10点，日本经济产业省官网，悄然更新公告，明确将EUV光刻胶，列入对华出口管制清单。

消息传出，半导体行业论坛瞬间炸开了锅，国内一家头部晶圆厂的采购总监，在内部群里连发三个感叹号：“最不想发生的事还是来了”。

EUV光刻胶是制造7nm以下芯片的核心耗材，全球市场几乎被日本信越化学、JSR等四家企业垄断。

数据显示，当时国内EUV光刻胶，年需求量超5000升，99%依赖进口。某半导体材料企业负责人坦言：“库存最多撑半年，新产线投产计划可能要推迟”。

其实，这场管制早有征兆。2018年，美国以“国家安全”为由，通过外交施压和贸易限制，迫使荷兰ASML，取消向中国出口EUV光刻机的订单。

2023年，美国牵头修订《瓦森纳协定》时，专门新增光刻胶等半导体材料管制条款，甚至派出贸易代表直接与日本企业沟通。

一位业内人士透露，那段时间，日本企业高层频繁往返华盛顿，谈判桌上火药味很浓。最终，日本在半导体产业，依赖美国技术设备的现实下，选择跟随美国的对华科技遏制战略。

芯片制造的核心材料

那这个光刻胶，到底有什么特别之处，能成为各方争夺的焦点呢？

简单来说，它是一种对光敏感的材料。在芯片生产过程中，光刻胶被涂在硅片表面，经过光照和显影，就能形成芯片的电路图案。

这些图案的精度，直接决定了芯片性能，特别是7nm以下制程用的EUV光刻胶，技术难度极高，生产过程要求非常严格，一点小差错都会影响芯片质量。

光刻胶的分类很多，按成像方式分正性和负性，按曝光光源又有紫外、深紫外等类型。它的主要成分是感光树脂、增感剂和溶剂，看似普通的配方，却需要很高的技术才能调配好。

除了芯片制造，光刻胶在显示面板等领域，也广泛应用，直接关系到终端产品的生产效率和质量，是衡量一个国家半导体技术水平的重要指标。

对比中日光刻胶产业，差距十分明显。从市场规模看，2023年中国光刻胶市场，规模约121亿元，但在全球占比不到20%。

虽然预计未来5年能保持10%的年增长率，但和日本比还有很大差距。中国在高端光刻胶领域，几乎依赖进口，EUV光刻胶国产化率，不足1%。

反观日本，全球五大光刻胶生产商中，日本企业占了四个，在高端ArF和EUV光刻胶市场，占有率超过90%，基本垄断了高端市场。

在专利方面，日本也占据优势。2021年，日本光刻胶专利申请量，占全球46%，到2023年涨到63%。

中国在2021年只占7%，虽然排名全球第四，但在技术研发和专利储备上，还有很长的路要走。

日本光刻胶的优势

日本光刻胶产业的强大，是长期积累的结果。

从上世纪60年代开始，日本就组织力量攻关光刻胶技术，逐步实现了技术自主，并且不断在高端领域取得突破，建立起很高的技术门槛。

日本企业背后有财团支持，不仅资金充足，还能整合各方资源。各大企业在不同细分领域各有专长，既有竞争又有合作，形成了强大的产业合力。

产业生态上，日本光刻胶企业和晶圆厂合作紧密。从产业发展早期就开始联合研发，根据晶圆厂需求定制产品，这种深度合作让光刻胶产品融入了整个半导体产业链，进一步巩固了日本的优势地位。

面对差距，中国光刻胶产业一直在努力追赶。2015年，科华微电子开发出首款ArF光刻胶，开启了国产光刻胶技术突破的进程。

2020年后，大量资金进入这个领域，企业研发和产能扩张速度加快。2021年，南大光电的ArF光刻胶，通过验证并小批量供货；2022年，上海新阳的193nm ArF光刻胶实现量产。

到了2024年，湖北九峰山实验室和华中科技大学团队，突破了“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。

清华大学和浙江大学团队提出“点击光刻”新方法，还做出了超高感光度光刻胶样品，这些成果让人看到了希望。

在产业化方面，国内已经有几十家企业，涉足光刻胶领域，A股市场也有大约20只相关股票。

像彤程新材，产品线比较齐全，G线、I线、KrF光刻胶都有成果，ArF和EUV光刻胶，也进入试量产阶段。

不过，中国光刻胶产业发展还面临不少挑战。国产光刻机国产化率不到3%，和国际先进水平差距大。

要实现产业真正突破，不仅要继续攻克技术难题，还要加强和下游企业合作，完善整个产业链。

我国应对措施

日本的光刻胶出口管制，给中国下游产业带来很大影响。

华为手机、比亚迪新能源汽车、AI算力企业等，都因为原材料供应问题，面临产能受限、技术升级困难、市场竞争压力增大等情况。

针对这些挑战，中国采取了一系列应对措施。

技术上，加大研发投入，集中力量解决关键技术问题；产业上，推动技术成果转化，培养本土企业；政策上，提供资金支持，出台优惠政策，培养专业人才。

此外，中国还通过稀土出口管制等措施，在国际博弈中争取主动。

从国际形势看，美国施压日本，限制对华光刻胶出口，对日本企业也不一定是好事。

参考阿斯麦因为美国限制中国市场，导致业绩下滑的例子，日本企业如果盲目跟随，最终可能损害自身利益。

在这场科技竞争中，各国都在考虑自身利益，寻找发展方向。光刻胶出口管制不只是贸易问题，更是国家科技竞争力的较量。

中国光刻胶产业虽然面临很多挑战，但每一次技术突破、每一步产业发展，都在为打破技术封锁、实现自主发展积累力量。

随着技术进步和产业链完善，未来中国光刻胶产业有望在全球半导体领域占据重要位置。

参考资料：

金融界、前瞻网

免责声明：本账号部分图片和内容，都来自官方媒体或互联网，如果存在侵权或其他任何问题，请联系我们立马删除，为了增加文章的可读性，一部分进行了润色，如有雷同，请不要当真