中国大陆，仅一家制造10nm以下芯片的企业，今年目标是5nm

众所周知，在芯片生产的所有环节中，制造是门槛最高，投资回报周期最长，难度最大的。

特别是先进芯片制造工艺，动不动就是投资上百亿美元，甚至几百亿美元，回报周期都是按10年这样的周期来算的。

所以，全球能够制造先进芯片，也就是14nm及以下芯片的企业，目前全球仅4家。

一家是台积电，一家是三星，一家是英特尔，一家是中芯国际。

除了这4家之外，全球其它任何芯片制造企业，都没有迈进14nm这个门槛，并且很大可能性，未来也不会往14nm及以下去努力。

比如格芯、联电之前的计划，就是最多达到14nm/12nm，不会再往10nm及以下去努力，因为他们觉得没这个必要，自己根本就没有实力往里冲，不如守着成熟的工艺算了。

而这4家最顶尖的芯片制造企业中，中国大陆仅一家，也就是中芯国际，但相对而言，中芯也是这4家中技术最落后的。

毕竟台积电、三星已经搞定了3nm，今年是2nm工艺。英特尔已经搞定了4nm，今年的目标是18A，也就是2nm。

而中芯国际在2019年搞定了14nm，在2023年的时候，和华为推出了全新的麒麟芯片，基于Mate60中，助力华为手机王者归来，那颗芯片的工艺属于N+1，没有明说是多少纳米，但大家都清楚，实际上这个是等效7nm的，明显相比于台积电们的3nm，确实是落后1-2代，有代差。

不过，近日，传出消息，2025的时候，很大可能性，中芯的N+2工艺可能会量产，而这个N+2，则是等效5nm工艺的，真假未知，但可能性很大。

我们知道，自从芯片工艺进入28nm之后，原来的芯片工艺命名法，其实就不太严谨了，实际上XX纳米，更多的都是数字营销了，其实都是等效工艺法了。

所以等效5nm，并不是那么的难，基于多重曝光工艺，利用浸润式DUV光刻机，其实是完全可以生产出来的，之前浸润式光刻机之父林本坚就说过，浸润式光刻机甚至可以制造2nm的芯片，只是工艺复杂，良率较低，这样成本会高一些，并不是制造不出来。