台积电员工涉嫌窃取2nm制程资料被捕，源头或为日本东京电子

据《金融时报》昨日报道，3名台积电工程师因涉嫌窃取台积电的机密技术遭中国台湾地区当局逮捕。

台积电官方表示，该公司在日前进行的内部例行监控时发现未经授权的访问活动，疑似存在商业机密外泄风险，因此主动向检方报案。

据台湾高等检察署智慧财产检察分署披露，检方在7月25日至28日期间，对9名涉案人员进行讯问，并搜查其住处与工作场所。此外，还搜查了日本半导体设备厂商东京电子（TOKYO ELECTRON）在台分部的办公室。

据了解，此案涉及的机密资料为台积电即将在今年下半年进行量产的2nm制程工艺，如果不出所料，将会首发应用在苹果的A20芯片上，因此目前属于国际顶尖技术。

9名涉案人员中，6名为台积电研发中心员工，因提供2nm工艺资料被调离原单位，另有3人为2nm工艺试产员工，因使用手机直接拍摄大量机密资料遭到直接解雇并被拘捕，其中陈姓工程师更是拍摄了多达700余张的机密资料照片。

至于为何搜查东京电子办公室，检方未作说明，东京电子也拒绝置评。不过结合日企芯片代工厂Rapidus于上月成功试产2nm芯片的消息，可见在2nm赛道已经开始变得拥挤，而这些资料的泄露无疑有助于大幅提升日本半导体产业实力。