日媒惊叹：中国或有望成荷兰和日本后第三个独立制造光刻机的国家

日本《日经亚洲》2025年7月刊登的一篇文章，让不少人吃了一惊。他们说，中国可能跟着荷兰和日本的脚步，成为全球第三个能自己搞定光刻机生产的国家。这不是随便说说，而是基于中国这几年在关键技术上的实打实进展。想想看，光刻机这东西，一直是芯片产业的硬骨头，荷兰的阿斯麦几乎垄断了高端市场，日本的尼康和佳能也占着一席之地。可中国从组装起步，慢慢摸索，现在开始有点样子了。这报道一出，国际上议论纷纷，大家都在想，中国这步棋怎么走下去。

其实，早几年大家还觉得中国在光刻机上追不上。2022年，日本JSR公司的老板埃里克约翰逊在采访里直言，中国就算拿到论文，也造不出极紫外光刻机。因为光源在美国手里，镜片在德国，光刻胶日本专利多。可中国没急着硬碰硬，而是从基础抓起。2020年，中国工厂帮阿斯麦组装的光刻机就占了全球两成出货，那时候本土团队就在车间里学经验，拆解流程，积累数据。现在回头看，这段日子没白费，成了后来突破的底子。

中国光刻机发展不是一条路走到底，而是多管齐下。上海微电子专注深紫外浸没式设备，他们的机器套刻精度控制在8纳米内，能支持55纳米芯片生产。这东西数值孔径1.35，用在通信和汽车芯片上挺合适。他们通过反复测试，优化了光路稳定性，避免了早期故障。另一边，璞璘科技搞纳米压印，交付的PL-SR系列线宽不到10纳米，已经在存储芯片线上跑起来了。客户反馈，这设备简化了步骤，产量上去了，缺陷少了点。

再说电子束这条路，浙江大学团队推出的“羲之”商用机，精度0.6纳米，线宽8纳米。用电子束直接画电路，适合量子芯片小批量做。测试时，复杂图案处理速度快了两成。哈工大那边，联合企业投了11亿元建产线，试运行13.5纳米极紫外光源，通过了关键验证。虽然离商用还有距离，但原型机实验稳了。这几条路互相补位，形成了一种组合拳，让中国半导体不至于卡在单一瓶颈上。

材料和部件国产化也跟上了。茂莱光学做了28纳米深紫外物镜，面形精度高，取代了进口货。华卓精科的双工件台精度2纳米，运动时稳得住。科益虹源的193纳米激光器集成进去，光源更可靠。南大光电的28纳米光刻胶良率超九成，已经进供应链。华特气体供应的氟碳材料纯度够高，支持精细工艺。这些东西从去年两成国产率，升到四成五，产业链慢慢连起来了。

12月，上海芯上微装交付了AST6200型350纳米步进光刻机，正面套刻80纳米，背面500纳米。兼容碳化硅和氮化镓，国产化率83%，直接用在5G基站和电动车控制上。客户生产线用后，产能提了一成。这机器虽不是最尖端，但正好卡在第三代半导体需求上，实用性强。中国进口设备还多，阿斯麦中国销售额占四成二，但本土替代在加速。

国家层面，集成电路基金三期3440亿元，重点砸向光刻。上海临港区给相关企业减税15%，拉来不少投资。张江高科股价涨了，中际旭创市值过5700亿元。光刻胶国产率从2020年15%到2025年预计40%，企业像彤程新材和上海新阳在高端领域有进展。成熟芯片需求占全球七成，中国从90纳米起步，设备如SSA600已经在用。

先进封装成了延续摩尔定律的办法，通过2.5D堆叠，多芯片整合，性能密度高。台湾专家说，中国制造和封装环节齐了，就差光源这东风。地缘因素下，荷兰和日本订单受影响，阿斯麦股价从674.90欧元掉到605.40，尼康订单少四成。中国第三代半导体市场份额大，本土技术从中低端往上爬。

全球半导体快到物理极限，中国多路线研发，纳米压印和电子束补传统光刻短板。EUV原型2025年初在深圳组装，实验室测试体积大，部件多，光源功率和镜面精度调了又调。产业链门类全了，材料自给率高，趋势是高端倾斜。

日本媒体这报道，其实有点不严谨。荷兰和日本光刻机也靠美国技术，光刻机是多国结晶。可从趋势看，中国在努力一国搞定全链条。以前南开大学刘亚东说差距20年，现在看缩短了。地缘压力让脱钩难，但中国用进口缓冲，自研突围。

中国光刻机故事，反映出半导体产业的较量。荷兰阿斯麦想合作，日本尼康跟美国紧，市场份额缩了。尼康2025年上半年订单少，业绩下滑，错过中国机会，翻身难了。中国团队用时间换空间，进口期加速自研，多极化市场，中国成一极。

半导体命运转不停，技术外有国家利益博弈。中国在光刻上这些步子，稳扎稳打，未来看头大。