只差光刻技术了！日媒：中国将成日荷后，第三个造光刻机的国家

全球半导体产业链里，光刻机一直是核心瓶颈。目前只有荷兰的阿斯麦和日本的尼康、佳能能生产高端设备。

中国企业正加速追赶，试图打破这种垄断。

2025年7月，日本《日经亚洲》杂志发文直指中国可能很快成为第三个独立制造光刻机的国家。

这篇文章基于中国本土研发动态，分析外部封锁如何推动内部创新。报道指出，中国已在深紫外浸没式设备上取得进展，目标直指极紫外领域。如果成功，整个芯片供应格局会大变。

中国光刻研发起步早，但长期依赖进口。上世纪70年代，中国技术水平跟日本差不多，主要靠科研院所积累经验。

80年代，通过国际合作缩小差距，那时重点在基础光学系统。90年代西方开始限制出口，中国转而强调自主路径。

2000年后，上海微电子成立，成为主力，推动从100纳米级深紫外设备入手。2007年，他们推出90纳米原型机，虽然零件问题影响量产，但验证了多重曝光工艺。这段历程显示，中国在产业链基础上的积累逐步加深。

2010年代，中国半导体需求爆发，美国视其为对手。

2018年，中兴和华为被列入实体清单，供应链中断。光刻领域，美国联合荷兰和日本加强禁运，阿斯麦营收一度下滑。中国没停步，转向极紫外研发，设定2030年全本土化目标。

国家集成电路产业投资基金第三期在2024年5月启动，注入3440亿元，支持关键部件攻关。地方政府也给上海微电子超10亿元资金，核心本土率目标50%。这些投入让研发速度超出预期。

2024年，工业和信息化部目录列入两款深紫外机型，标志产品成熟。2025年上半年，中国企业大量采购阿斯麦深紫外设备，库存作为过渡。

荷兰10月31日提前发布新出口规则，限制7纳米以上供应，这进一步刺激本土创新。

上海微电子9月在工博会上展示极紫外参数，光源效率2.3%，体积缩30%。他们用激光诱导放电等离子体方案，成本低、耗电少45%，不同于阿斯麦的激光产生等离子体技术。这显示中国在技术路径上寻求差异化。

日媒报道强调，中国囤货不是被动，而是为研发争时间。2025年上半年，光刻生态投资超千亿元，长江存储设备本土占比超六成。

新凯来10月完成极紫外验证，与上海微电子互补，形成梯队。专家说，这开启90纳米到14纳米阶梯推进。

28纳米浸没式深紫外进入验证，本土率九成。华为东莞基地原型机效率从2%升到4.5%。第三季度试产启动，封装环节本土九成。专利申请量超美日总和，覆盖全链条。

中国产业链完整，从胶层到光学系统，避免单一环节卡住。

这跟苏联教训相关，强调全套自控。日媒分析，中国不是跟风，而是有备胎方案。

日本尼康在中低端市场占大头，但中国成熟制程订单占全球70%，价格低让日企头疼。菱洋电子内部报告抱怨，订单流失严重。

美智库承认，中国极紫外瓶颈接近突破，但全球市场仍由阿斯麦主导。日本扩展禁令到量子部件，2024年中国黑名单扩增。

阿斯麦2024年财报显示，中国市场贡献大，但禁运后营收下滑。2025年荷兰新规实施，中国提前囤货缓解影响。

公司员工扩招50%，工厂扩建稳盘。

尼康订单锐减40%，生产线调整拆旧设备。日媒承认，美国极紫外禁令没挡住中国28纳米发展，反而推其全球份额扩张。中国工厂低价高产，成为首选。

长远，中国不只造机，还可能影响规则。

中国光刻滞后阿斯麦和尼康，但成熟制程领先。

价格低效率高，中国工厂成香饽饽。未来6纳米在望，设备差距缩小。这路靠实打实投入，步步为营。

日媒惊呼没错，只差临门一脚。芯片战场，中国从追赶到并跑。

全球格局，看实力说话。阿斯麦推深紫外计算方案，中国专注自主路径。尼康和佳能原有市场，中国加入降低依赖。

外部压力倒逼中国创新。

2025年7月外媒爆中国极紫外实验过关，预计投产。这让日荷企业警觉。上海微电子作为主力，公开参数亮眼。国家大基金砸钱，协调上下游。

日媒眼中的中国野心，正逐步实现。封锁虽严，但中国后发能力强。全球三家垄断，或将变四家。

中国已在测量、沉积、化学抛光等领域突破。

上海微电子和华为引导供应商用本土设备。日媒提到，光刻入门门槛高，中国赶超需时。但勤劳工程师攻克，似乎时间问题。

中国能造28纳米机，保证多重曝光工艺不受禁令影响。性能堪比英伟达H20，逼美放松管制。现阶段，中国谦虚谨慎，防情报泄密。美最怕中国停进口光刻机。

类似事件多，中国开源大模型破AI神话。歼10C雷达升级，在印巴空战中表现亮眼。

中国后手多，连自己都数不清。段子虽夸张，但工业基础厚，14亿市场支撑试错。取代阿斯麦和日本，或水到渠成。

最近芯片圈热闹，日媒7月16日文说中国囤阿斯麦设备。报道称，中国很可能成第三个光刻机国家。全球就三家，中国追上，格局洗牌。