比尔盖茨早在2023年就指出,美国对中国的芯片限制会产生反效果,推动中国全力投入自主研发,同时削弱欧美企业的市场地位。
到2025年,这一观点通过数据逐步验证,ASML在2025年第三季度公布的订单仅为54亿欧元,虽然超出市场预估,但整体销售困境显现,导致股价在10月后波动,到11月4日收盘约1037美元。

订单下滑的多重原因交织,首先源于出口管制的连锁反应,美国禁止向中国提供用于7纳米以下人工智能芯片的设备,海外代工厂如台积电随之减少极紫外设备的采购,形成需求闭环的断裂。
与2024年相比,2025年的极紫外设备出货量下降约15%,产能利用率从95%降至80%,ASML调整生产线应对库存压力。中国企业在管制前储备深紫外设备,采购量从2023年的上百台扩展,这些设备支持14纳米工艺的规模生产。
与早期进口依赖不同,本土生产线优化曝光参数和多重图案化技术,将线宽控制在10纳米以内,晶体管密度提升三倍,功耗降低20%。

中芯国际在上海工厂引入储备设备后,产量从每月数万片晶圆增加到数十万片,成本摊薄显著,单片制造费用从数百美元降至百元级别。
这种策略缓冲了管制影响,并提升成熟工艺芯片的竞争力,2025年中国芯片出口总额预计超过1600亿美元,比2018年增长一倍,占据全球市场的20%以上,挤占三星和英特尔在消费电子领域的份额,导致后者缩减深紫外设备投资,甚至暂停部分生产线建设。
ASML首席执行官曾在2024年表示中国芯片技术落后西方15年,这种表述忽略了管制引发的市场变化。

实际上,比尔盖茨的预言通过ASML的财务数据体现,销售瓶颈反映格局调整。极紫外设备的垄断虽维持,但需求疲软主导,2025年第三季度总净销售75亿欧元,中国市场贡献占比约42%,但预计2026年降至20%以下。
与2024年相比,2025年全年净销售增长15%,达到约325亿欧元,毛利率保持在52%,增长主要依赖人工智能和数据中心,而非传统逻辑芯片。
管制联盟从2023年起收紧深紫外设备出口许可,审查从技术参数扩展到最终用户用途,中国企业采购周期延长一倍以上。

在这一环境下,中国本土光刻机研发加速,上海微电子装备公司的深紫外设备进入多家工厂测试,针对28纳米工艺,采用浸没式光源,通过国产镜头和激光系统,将售价控制在进口设备的七分之一。
与90纳米国产设备相比,新机型分辨率从100纳米提升到30纳米,曝光速度从每小时50片晶圆增加到150片,利用多层光路设计和精密振动控制系统实现跃升。
这种进步源于持续投资,2025年中国半导体设备投入超过500亿元人民币,覆盖光刻胶和掩膜版等上游材料,本土自给率从2023年的13%上升到2025年的接近50%。对比ASML设备,国产机型维护成本降低30%,兼容性更强,适合中小型工厂快速迭代。

管制实施暴露供应链脆弱性,ASML股东包括台积电、三星和英特尔,产能优先分配这些企业,中国订单对整体营收贡献有限,2025年仅占总销售的29%。
比尔盖茨在2025年5月访谈中重申,禁令迫使中国在芯片制造上前进,华为Ascend系列芯片接近国际水平,证明自力更生成效。
与依赖外部技术不同,中国通过大基金支持,组建超过300家企业参与的光刻研发联盟,重点攻克极紫外光源技术,采用电子束曝光替代传统激光,计划2026年规模化生产。这种路径与ASML迭代不同,后者依赖高数值孔径镜组提升精度,而中国方案强调模块化设计,便于升级。

订单下滑细节揭示市场逆转,ASML极紫外设备出货从2024年高峰下降,2025年全年交付约50台,远低于产能上限。海外客户观望浓厚,英特尔推迟工厂扩建,三星调整内存芯片投资,导致设备需求中断。
中国芯片性价比优势显现,2025年全球半导体销售预计7000亿美元以上,中国贡献超过20%,汽车电子领域市场份额从10%增长到25%,价格比进口低15%-20%。
这种挤压传导上游,ASML面对库存压力,2025年第三季度新增订单54亿欧元,主要来自人工智能领域。

比尔盖茨预言的负面影响量化,欧美市场份额流失5%-10%。细节对比中,国产设备曝光面积从200平方毫米扩展到300,速度提升25%。更新换代路径强调可持续,采用绿色材料减少环境影响。反转累积推动全球重塑,ASML加大研发投入,2025年预算超50亿欧元。
中国企业联盟共享资源加速迭代,28纳米设备量产,性能与进口相当。过程包括测试优化,缺陷率从5%降至1%。与之前对比,进步在于集成度提升,芯片密度翻倍。
管制双刃剑效应凸显,中国自给率逼近50%,华为计划2025年初量产先进AI芯片,尽管面临限制。上海微电子600系列光刻系统在90纳米节点进入量产,28纳米开发推进,捕捉国内市场90%以上份额。

这种本土化蚕食ASML边缘市场,东南亚工厂转向中国供应商,价格驱动订单转移。比尔盖茨举例,DeepSeek等AI进展证明禁令加速创新。
推进发展关键在于资金和技术人才,2025年中国半导体人才规模超过50万人,研发项目全覆盖。更新换代中,ASML推出高NA极紫外设备,数值孔径从0.33提升到0.55,分辨率达8纳米,而中国方案聚焦低成本,通过叠层技术实现类似效果,成本仅为其一半。
反转的深层内涵在于,外部压力转化为内部动力,中国半导体从跟随转向并行,ASML的困境印证了依赖垄断的局限性。

全球芯片生态重构,中国自主路径增强竞争力,促使西方反思策略,推动潜在合作机会。
参考资料
光刻机卖不动了?ASML阿斯麦订单“腰斩”,股价大跌16% 极客网
更新时间:2025-11-07
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